[发明专利]阵列基板及其制作方法、3D显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及3D显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板及其制作方法、3D显示装置。

背景技术

目前比较成熟的光栅裸眼3D技术，其基本结构为在显示屏的上偏光片外侧贴附一层光栅层，通过该光栅层将显示屏中像素发出的光分别输出给观看者的左、右眼，从而产生立体视觉效果。现有裸眼3D显示装置的结构如图1和图2所示，图1中示出的显示装置包括由位于彩膜基板2上方的上偏光片1、位于阵列基板下方的下偏光片4、以及彩膜基板2和阵列基板3对盒形成的显示屏，彩膜基板2和阵列基板3之间为液晶层7。在上偏光片1的上方设置了光栅基板5，光栅基板5上方形成有光栅层6，光栅层6作为视差挡板，以在显示装置的视区内形成左、右眼视区。图2中示出的显示装置与图1中显示装置的结构相类似，只是将光栅层6设置在了上偏光片1和光栅基板5之间，同样能够实现裸眼3D显示。其中，光栅基板5可以为玻璃或塑料。

在实际应用过程中发现，上述裸眼3D显示技术存在以下问题：

（1）因为增加了光栅基板，光线的透过率较低，显示装置的亮度较低，同时因光栅基板的存在，显示装置整体厚度增加；

（2）光栅区域需要与像素区域对位，在制备工艺中，形成有光栅层的光栅基板与显示屏对位贴合困难，良品率较低，同时光栅与阵列基板上像素对位精度低也将极大影响显示装置的显示效果；另外需要有专门的对位贴合制作工序，所以引起显示装置成本较高；

（3）光栅会挡住一部分光线不透显示装置，导致整个显示装置的亮度较暗。

为了解决上述问题，另一种方案中可以将光栅层6直接制作于彩膜基板2之上，即光栅层6位于彩膜基板2和上偏光片1之间，如图3所示，显示屏的彩膜基板2以下的层级结构与图1和图2中显示屏层的彩膜基板2以下的层级结构相同。该方案中只是减少了光栅基板，将光栅层6做在了彩膜基板2和上偏光片1之间，这样能够解决上述（1）和（2）的问题，但是该种结构中，整个显示装置的亮度仍然无法改善。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是：如何提高3D显示装置的亮度。

（二）技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种阵列基板，包括：衬底基板及位于所述衬底基板上的像素阵列层，还包括：由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板面向所述像素阵列一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列一侧，所述挡光条用于将通过所述衬底基板射向所述像素阵列层的光线反射。

其中，所述像素阵列层包括像素电极层和位于所述像素电极层背离所述衬底基板一侧的取向层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧具体为：所述光栅层位于所述像素电极层和取向层之间。

其中，所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列层一侧，所述挡光条包括：遮光层和反光层，所述遮光层位于衬底基板和所述反光层之间，且所述反光层在所述衬底基板上的投影被所述遮光层在所述衬底基板上的投影覆盖。

其中，所述挡光条由反光材料制成。

其中，还包括：位于所述挡光条背离所述像素阵列层一侧的偏光片。

其中，还包括：位于所述衬底基板背离所述像素阵列层一侧的偏光片，所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列层一侧具体为：所述光栅层位于所述偏光片背离所述像素阵列层的一侧。

其中，所述挡光条包括：遮光层和反光层，所述遮光层位于所述偏光片和所述反光层之间，且所述反光层在所述衬底基板上的投影被所述遮光层在所述衬底基板上的投影覆盖。

本发明还提供了一种3D显示装置，包括上述任一项所述的阵列基板。

本发明还提供了一种阵列基板制作方法，包括在衬底基板一侧的表面形成像素阵列层，还包括：在所述衬底基板另一侧形成由若干间隔有预定距离的挡光条排列成的用于3D显示的光栅层的图形。

其中，所述在所述衬底基板另一侧形成由若干间隔有预定距离的挡光条排列成的用于3D显示的光栅层的图形的步骤具体包括：

在所述衬底基板另一侧的表面直接形成由若干间隔有预定距离的挡光条排列成的用于3D显示的光栅层的图形。

其中，还包括在所述光栅层的图形表面形成偏光片。

其中，所述在所述衬底基板另一侧形成由若干间隔有预定距离的挡光条排列成的用于3D显示的光栅层的图形的步骤具体包括：

在所述衬底基板另一侧的表面形成偏光片；