[发明专利]一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统

权利要求书

1.一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统，其特征在于：该系统包括掩膜台台体（1）、驱动电机和机架（2）；所述的掩膜台台体（1）位于该掩膜台系统的中部，所述的驱动电机采用两组，两组驱动电机对称布置在掩膜台台体（1）沿X方向的两个侧面上，驱动电机的永磁体阵列（4）和掩膜台台体（1）连接在一起，构成该掩膜台系统的动子部分，两组驱动电机的线圈阵列和机架（2）连接在一起，构成该掩膜台系统的定子部分，每个驱动电机在X方向、Y方向和Z方向的三个方向出力； 

所述的驱动电机的线圈阵列（5）的线圈采用叠层正交线圈，多个叠层正交线圈沿线性方向依次排列；或线圈阵列的线圈采用单层绕制线圈，多个单层线圈沿线性方向依次排列，且相邻两个线圈的绕线方向相互垂直；线圈阵列（5）中的每个线圈由通电线圈（9）和线圈骨架（10）组成，整个线圈固定在机架（2）上。 

2.如权利要求1所述的一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统，其特征在于：该系统还含有平面衍射光栅测量系统，所述的平面衍射光栅测量系统包括用于测量掩膜台与机架（2）之间相对位置的两个传感器组件；所述的每个传感器组件包括一个平面衍射光栅尺（27）、若干个光栅读数头（25）和一个光栅读数头连接板（26）；所述的两个传感器组件沿X轴方向对称布置在掩膜台台体（1）的下方；所述的每个传感器组件的光栅读数头（25）通过光栅读数头连接板（26）与机架（2）连接在一起，所述的光栅读数头（25）沿X轴方向等间距对称分布在掩膜台台体（1）的两侧，且固定于光栅读数头连接板（26）的上表面，所述的每侧的光栅读数头（25）共用一个平面衍射光栅尺（27）；所述的平面衍射光栅尺（27）安装在掩膜台台体（1）沿X轴方向的两侧边上；所述的光栅读数头（25）与平面衍射光栅尺（27）之间保留间隙。

3.按照权利要求1所述的一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统，其特征在于：所述的掩膜台台体（1）为薄壁壳体，由碳化硅陶瓷材料制成。 

4.如权利要求1所述的一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统，其特征在于：所述的驱动电机的永磁体阵列由主永磁体（13）、附永磁体（14）和永磁体背板（12）组成，主永磁体（13）与附永磁体（14）以Halbach二维平面阵列形式粘接固定于永磁体背板（12）的表面上，相邻的主永磁体（13）与附永磁体（14）的磁场方向相互垂直，在各永磁体之间形成封闭磁路。