[发明专利]一种阵列基板、其制备方法、液晶显示面板及显示装置有效
申请号: | 201310388570.8 | 申请日: | 2013-08-30 |
公开(公告)号: | CN103472641A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 蔡振飞;崔晓鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333;H01L21/77 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 制备 方法 液晶显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,分为显示区域和非显示区域,其中,在所述显示区域内设置有数据信号线,在所述非显示区域内设置有接线端子衬垫以及连接所述接线端子衬垫与所述数据信号线的金属走线,其特征在于:
在所述金属走线的上方设置有覆盖所述金属走线的遮挡部。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮挡部为多个,所述遮挡部与所述金属走线一一对应,且各所述遮挡部之间相互绝缘。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮挡部为一个,且所述遮挡部与各所述金属走线之间相互绝缘。
4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括:位于所述数据信号线上方的像素电极,所述遮挡部设置为与所述像素电极同层同材质。
5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮挡部的材料为铟锡氧化物材料。
6.如权利要求1-5任一项所述的阵列基板,其特征在于,还包括:位于所述金属走线下方,与所述金属走线电性相连的备用线。
7.如权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,还包括:位于所述显示区域的栅极信号线,所述金属走线设置为与所述栅极信号线同层同材质。
8.如权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,还包括:位于所述栅极信号线下方的公共电极,所述备用线设置为与所述公共电极同层同材质。
9.如权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,所述备用线的材料为铟锡氧化物材料。
10.一种液晶显示面板,其特征在于,包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板。
11.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求10所述的液晶显示面板。
12.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成位于阵列基板的显示区域内的数据信号线的图形、位于阵列基板的非显示区域内的接线端子衬垫以及金属走线的图形;所述金属走线连接所述接线端子衬垫和所述数据信号线;
在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形。
13.如权利要求12所述的制备方法,其特征在于,
所述遮挡部为多个,所述遮挡部与所述金属走线一一对应,且各所述遮挡部之间相互绝缘。
14.如权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述遮挡部为一个;
所述在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形之前,还包括:
在所述金属走线上形成绝缘层,所述遮挡部通过所述绝缘层与各所述金属走线绝缘。
15.如权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述在所述金属走线的上方形成覆盖所述金属走线的遮挡部的图形,具体包括:
在所述金属走线的上方形成像素电极的薄膜;
通过一次构图工艺在所述像素电极的薄膜中形成包含像素电极和遮挡部的图形。
16.如权利要求12-15任一项所述的制备方法,在其特征在于,在形成金属走线的图形之前,还包括:
形成备用线的图形,所述备用线与将要形成的金属走线电性相连。
17.如权利要求16所述的制备方法,在其特征在于,所述形成金属走线的图形,具体包括:
在衬底基板上形成栅极信号线的薄膜;
通过一次构图工艺在所述栅极信号线的薄膜中形成包含栅极信号线和金属走线的图形。
18.如权利要求17所述的制备方法,其特征在于,形成备用线的图形,具体包括:
在衬底基板上形成公共电极的薄膜;
通过一次构图工艺在所述公共电极的薄膜中形成包含公共电极和备用线的图形。
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