[发明专利]一种光学扩散膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学扩散膜，包括有基材层(1)，所述的基材层(1)的上表面涂覆形成光学扩散层(2)，该基材层(1)的下表面涂有防粘接层(3)，其特征是：所述的光学扩散层(2)的涂液的组成配方的重量份数为：树脂粘合剂10份至30份、扩散剂21份至43份、交联剂1份至5份、稀释剂40份至70份，所述的扩散剂包含扩散粒子20份至40份、助扩散粒子(6)1份至3份；所述的防粘接层(3)的涂液的组成配方的重量份数为：防粘接粒子20份至40份、树脂粘合剂20份至50份、交联剂1份至3份、稀释剂40份至60份。

2.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的基材层(1)为PET材料、PS材料或PC材料制成。

3.根据权利要求2所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的树脂粘合剂为丙烯酸树脂粘合剂、聚氨酯粘合剂或聚酯粘合剂。

4.根据权利要求3所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的扩散剂为有机微珠、无机离子或者两者的混合物。

5.根据权利要求4所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的扩散粒子为第一PMMA粒子(4)和第二PMMA粒子(5)的混合物，所述的第一PMMA粒子(4)和第二PMMA粒子(5)的粒径比为5:1至20:1，其重量比3:1至8:1。

6.根据权利要求5所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的第一PMMA粒子(4)的粒径为15微米至40微米，所述的第二PMMA粒子(5)的粒径为1微米至5微米。

7.根据权利要求4所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的助扩散粒子(6)为纳米级的氧化钛或碳酸钙，所述的助扩散粒子(6)的粒径为10纳米至90纳米。

8.根据权利要求4所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的交联剂为脂肪类异氰酸酯类交联剂，所述的防粘接粒子为第二PMMA粒子。

9.根据权利要求8所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的光学扩散层(2)的厚度为第一PMMA粒子(4)的粒径的1/2至4/5，所述的防粘接层(3)的厚度为第二PMMA粒子(6)的粒径的2/5至3/5。

10.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜的制备方法，其特征是：包括以下步骤：

步骤1、按照光学扩散层(2)的组成配方准备涂液原料；

步骤2、将配方中的稀释剂、扩散剂加入到分散机中，在1000r/min的转速下分散30min至40min，然后加入树脂粘合剂，在700r/min的转速下分散15min至20min，接着加入交联剂，在700r/min的转速下分散10min至15min；

步骤3、将分散均匀的光学扩散层(2)的涂液原料涂于基材层(1)的上表面，然后进行烘干处理，在80℃至110℃的烘干温度下烘干40秒，最后进行老化处理，在55℃的老化温度下老化60小时形成光学扩散层(2)；

步骤4、按照防粘接层(3)的组成配方准备涂液原料；

步骤5、将配方中的稀释剂、防粘接粒子加入到分散机中，然后加入树脂粘合剂，在700r/min的转速下分散15min至20min，接着加入交联剂，在700r/min的转速下分散10min至15min；

步骤6、将分散均匀的防粘接层(3)的涂液原料涂于基材层(1)的下表面，然后进行烘干处理，在80℃至110℃的烘干温度下烘干40秒，最后进行老化处理，在55℃的老化温度下老化60小时形成防粘接层(3)；完成光学扩散膜的制备。