[发明专利]并行扫描激光预处理装置及方法

权利要求书

1.一种并行扫描激光预处理装置，包括沿激光传输方向设置的激光光源（1）、机械快门（2）、能量衰减器（3）、光束汇聚系统（4）、分光劈板（5）和合束镜（13），还包括光束轮廓仪（6）、激光能量计（7）、信标光源（8）和电动位移台（12）；光学元件（11）置于电动位移台（12）上；其特征在于，装置与光学元件（11）之间设有倾斜镜阵列（9），光学元件（11）前设置有检测相机（10）。

2.根据权利要求1所述的光学元件激光预处理装置，其特征在于，所述的激光光源（1）为调Q式固体激光器。

3.根据权利要求1所述的光学元件激光预处理装置，其特征在于，所述的信标光源（8）为氦氖激光器。

4.根据权利要求1所述的光学元件激光预处理装置，其特征在于，所述的倾斜镜阵列（9）的镜面为镀有高反射薄膜的凹面镜。

5.根据权利要求1所述的光学元件激光预处理装置，其特征在于，所述的倾斜镜阵列（9）的角度控制由压电陶瓷驱动。

6.根据权利要求1所述的光学元件激光预处理装置，其特征在于，所述的检测相机（10）为CCD视觉检测相机。

7.一种并行扫描激光预处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

   A．精确调节倾斜镜阵列（9）的俯仰角，控制各光斑在光学元件（11）反射表面上的位置坐标，以此将各光斑排列成规则分布的组束；组束作为整体以并行方式对光学元件（11）进行并行扫描；组束尺寸与检测相机（10）的视场范围相匹配；

   B．由能量计（7）和光束轮廓仪（6）测量脉冲能量和有效面积；

   C．根据组束尺寸和激光重复频率，由电动位移台（12）调整光学元件（11）的位移速度；

   D．根据检测相机（10）检测的损伤坐标，计算光学元件（11）的辐照盲区，并记录；

   E．并行扫描完毕后，采用单光斑方式对光学元件（11）的辐照盲区逐一进行填充。