[发明专利]一种无须搭桥的防污OGS触摸屏及其形成方法无效
| 申请号： | 201310383969.7 | 申请日： | 2013-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN103500043A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 王进东 | 申请（专利权）人： | 江苏宇天港玻新材料有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044;G06F3/041 |
| 代理公司： | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人： | 朱庆华 |
| 地址： | 223100 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 无须 搭桥 防污 ogs 触摸屏 及其 形成 方法 | ||
1.一种无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，包括透明基板、位于所述透明基板触摸面侧的防污层以及位于所述透明基板感应面侧依次形成的图案化的黑矩阵层、图案化的第一ITO层、绝缘层、图案化的第二ITO层和保护层。
2.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述黑矩阵层采用印刷或者光刻工艺形成。
3.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述第一ITO层和所述第二ITO层均采用磁控溅射工艺形成。
4.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述图案化的第一ITO层和所述第二ITO层采用光刻或者激光刻线工艺形成。
5.根据权利要求1所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏，其特征在于，所述防污层采用磁控溅射工艺形成。
6.一种无须搭桥的防污OGS触摸屏的形成方法，其特征在于，包括步骤：
1）在透明基板的感应面侧采用印刷或者光刻工艺制作图案化的黑矩阵层；
2）接着在具有图案化的黑矩阵层上形成第一ITO层；
3）对第一ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第一ITO层；
4）在图案化的第一ITO层上形成绝缘层；
5）在绝缘层上形成第二ITO层；
6）在透明基板的触摸面侧形成防污层；
7）对第二ITO层采用光刻或者激光刻线工艺进行图案化，形成图案化的第二ITO层；
8）在透明基板的感应面侧溅射或者印刷保护层。
7.根据权利要求6所述的无须搭桥的防污OGS触摸屏的形成方法，其特征在于，所述步骤6）中采用溅射工艺形成防污层。
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