[发明专利]光源设备、光源设备的控制方法、以及显示设备

权利要求书

1.一种光源设备，包括：

光源基板，其上配置有一个或多个发光单元；

光学片材，用于反射来自所述发光单元的光；以及

检测单元，用于检测所述光学片材反射后的反射光，

其中，所述检测单元配置在一个发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的检测值的变化量的绝对值为预定值以下的位置处。

2.根据权利要求1所述的光源设备，其中，

所述预定值近似为3%。

3.根据权利要求1或2所述的光源设备，其中，

来自所述发光单元的光具有强度分布大致为朗伯分布的指向性，以及

将配置在一个发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的检测值的变化量的绝对值为预定值以下的位置处的检测单元设置在相对于该发光单元的发光中心远离了该发光单元和所述光学片材之间的距离的2.75～5.37倍的距离的位置处。

4.根据权利要求1或2所述的光源设备，其中，

来自所述发光单元的光具有强度分布大致为朗伯分布的指向性，以及

将配置在一个发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的检测值的变化量的绝对值为预定值以下的位置处的检测单元设置在相对于该发光单元的发光中心远离了该发光单元和所述光学片材之间的距离的近似4倍的距离的位置处。

5.根据权利要求1或2所述的光源设备，其中，

将配置在一个发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的检测值的变化量的绝对值为预定值以下的位置处的检测单元设置成与所述光学片材的表面上的、由于所述光学片材的挠曲所引起的所述光学片材的该表面上的亮度的变化量大致为零的位置相对。

6.根据权利要求1或2所述的光源设备，其中，

所述光源基板具有多个所述发光单元，

所述光源设备还包括：

多个所述检测单元；以及

调整单元，用于基于多个所述检测单元中的配置在一个发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的检测值的变化量的绝对值为预定值以下的位置处的检测单元的检测值，来调整该发光单元的发光亮度。

7.根据权利要求6所述的光源设备，其中，

所述调整单元参考多个所述发光单元和多个所述检测单元之间的对应关系预先确定的对应表，并且选择多个所述检测单元中的配置在一个发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的检测值的变化量的绝对值为预定值以下的位置处的检测单元。

8.根据权利要求6所述的光源设备，其中，

多个所述检测单元中的配置在一个发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的检测值的变化量的绝对值为预定值以下的位置处的检测单元并非是离该发光单元最近的检测单元。

9.根据权利要求6所述的光源设备，其中，

多个所述发光单元发出指向性相互不同的各种光，以及

发出指向性较高的光的发光单元的发光中心和调整发出指向性较高的光的发光单元的发光亮度所使用的检测单元之间的距离短于发出指向性较低的光的发光单元的发光中心和调整发出指向性较低的光的发光单元的发光亮度所使用的检测单元之间的距离。

10.根据权利要求6所述的光源设备，其中，

离所述光源基板的边缘较近的发光单元的发光中心和调整离所述光源基板的边缘较近的发光单元的发光亮度所使用的检测单元之间的距离长于离所述光源基板的边缘较远的发光单元的发光中心和调整离所述光源基板的边缘较远的发光单元的发光亮度所使用的检测单元之间的距离。

11.根据权利要求6所述的光源设备，其中，

多个所述发光单元包括第二发光单元和第三发光单元，

将调整所述第二发光单元的发光亮度所使用的检测单元配置在离所述第二发光单元比与所述光学片材的表面上的、仅所述第二发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的亮度的变化量大致为零的位置相对的位置更远的位置处，

将调整所述第三发光单元的发光亮度所使用的检测单元配置在离所述第三发光单元比与所述光学片材的表面上的、仅所述第三发光单元点亮时的由于所述光学片材的挠曲所引起的亮度的变化量大致为零的位置相对的位置更近的位置处，以及

所述第二发光单元和所述第三发光单元配置在分散的位置处，以使得由于亮度分布的变化所引起的调整后的发光亮度的误差被抵消。