[发明专利]反射IR的层系统的保护层，反射IR的层系统和其制造方法

权利要求书

1.一种反射IR的层系统的保护层，所述反射IR的层系统布置在基底上，所述保护层向上封闭所述反射IR的层系统，其特征在于，所述保护层由氮氧化钛作为主要成分构成并且所述保护层具有在几纳米范围内的层厚以及具有非晶态的结构。

2.根据权利要求1所述的保护层，其特征在于，所述保护层的层厚在几纳米范围内，优选在2nm至7nm范围内。

3.根据权利要求1或2所述的保护层，其特征在于，所述保护层的表面具有在小于1nm范围内的RMS粗糙度。

4.按前述权利要求任一项所述的保护层，其特征在于，所述保护层具有如下这样的耐磨强度：用泰伯磨耗试验机测试得出小于1%范围内的由于保护层磨损的透射率提高。

5.根据权利要求1至3任一项所述的保护层，其特征在于，所述保护层具有小于50%范围内的铝的份额。

6.一种反射IR的层系统，其布置在基底上并且从基底向上包括至少具有基层的基层布置、至少具有功能层的功能层布置和具有至少一个抗反射覆盖层的覆盖层布置，其特征在于，在所述层系统上布置有根据前述权利要求任一项所述的机械的保护层。

7.一种用于制造反射IR的层系统的保护层的方法，其方式是在所述反射IR的层系统上借助阴极溅射来沉积出层，其特征在于，其主要组成部分由氮氧化钛构成的保护层由陶瓷的、亚化学计量的氧化钛靶在溅射气氛中存在氩和氮的情况下，或者由金属的钛靶在溅射气氛中存在氩、氧和氮的情况下以几纳米范围内的层厚来沉积，并且所述保护层具有非晶态的结构。

8.根据权利要求7所述的用于制造反射IR的层系统的保护层的方法，其特征在于，所述保护层的层厚在2nm至7nm的范围内。

9.根据权利要求7或8所述的用于制造反射IR的层系统的保护层的方法，其特征在于，所述溅射氛围包含氧气。

10.根据权利要求7至9任一项所述的用于制造反射IR的层系统的保护层的方法，其特征在于，所述沉积借助MF溅射来进行。

11.一种用于制造反射IR的层系统的方法，其中，在基底上借助阴极溅射依次沉积具有至少一个基层的基层布置、具有至少一个功能层的功能层布置和具有至少一个抗反射覆盖层的覆盖层布置，其特征在于，根据权利要求7至10任一项所述将保护层以向上封闭所述层系统的方式沉积在所述覆盖层布置上。