[发明专利]一种定量修补装置及其定量修补方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种修补装置及修补方法，特别是指一种能应对多种复杂状况，如膜层厚度不均，异物尺寸不定等的定量修补装置及其定量修补方法。

背景技术

与LCD简单的Layout（布局布线）设计不同，LTPS-AMOLED（Low Temperature Poly-silicon-Active Matrix/Organic Light Emitting Diode，低温多晶硅技术-有源矩阵有机发光二极管面板）繁复的Over layer及整板ELA（准分子激光退火）后栅极线路变化会对像素显示造成极大影响，因此需要进行选择性修补。

目前实现选择性修补的方式主要有两种：第一，纳秒级激光向皮秒级激光甚至飞秒级激光发展，通过减小脉冲宽度，降低每个脉冲的能量来实现选择性修补；第二，通过将一束激光分解成多束激光而降低每一束激光的能量来实现选择性修补。但是，以上所有方式都是基于减小激光单束能量或每个脉冲的能量实现选择性修补，只能依靠经验去判断和设定能量，无法真正应对多种复杂状况，如膜层厚度不均，异物尺寸不定等，无法做到高可靠度的选择性修补。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种减小对像素的影响、能应对多种复杂状况的定量修补装置及其定量修补方法。

为达到上述目的，本发明提供一种定量修补装置，其包括激光源、第一计时器、衰减器、测距与修补系统、基底及第二计时器，该基底包括参照平面与加工表面，该激光源发出的激光束依次经由第一计时器、衰减器入射至测距与修补系统，其中该激光源、第一计时器与衰减器设于同一光轴上，在所述测距与修补系统内，激光束分为两束，并分别由基底的参照平面与加工表面反射后入射至该第二计时器，由该第一计时器与第二计时器计算激光束到达的时间，该加工表面上有异物，该异物具有一定高度；所述激光源与衰减器连接至计算机，该第一计时器连接至该第二计时器，并向该第二计时器传输开始计时信号，该第二计时器连接至该计算机。

所述测距与修补系统包括第一分光镜、参考测距系统及实际测距系统，由所述衰减器射出的激光束入射至所述第一分光镜，该第一分光镜将激光分为两束，一束用作激光修补及实际测距，其透过该第一分光镜沿原方向入射至所述实际测距系统，并由基底的加工表面反射后入射至第二计时器，另一束用作参考测距，其由所述第一分光镜反射后入射至参考测距系统，并由基底的参照平面反射后入射至第二计时器。

所述实际测距系统包括第二分光镜与修补镜头，该第二分光镜与所述第一分光镜镜面平行，且两者镜面法线方向相反，经过所述第一分光镜透射的光束透过第二分光镜并直接经修补镜头至基底的加工表面，由加工表面反射回部分反射光入射至该第二分光镜，经过该第二分光镜反射一部分光束到达所述第二计时器。

所述第二分光镜与所述第二计时器之间设有第一自动对焦单元，该第一自动对焦单元与第二计时器设置在同一光轴上。

所述第二计时器远离所述第二分光镜的一端设有第一自动对焦单元，该第一自动对焦单元与所述第二计时器为同一光轴。

所述参考测距系统包括第二反射镜、第三分光镜、第四分光镜及取样镜头，该第二反射镜的镜面与所述第一分光镜的镜面平行，该第三分光镜镜面与该第二反射镜镜面平行，且两者镜面法线方向相同，该第四分光镜镜面与第三分光镜镜面垂直；经过所述第一分光镜反射到第二反射镜的激光束反射后依次透过第三分光镜与第四分光镜，经过取样镜头到达基底的参照平面上，经参照平面反射后激光束透过该第四分光镜入射至第三分光镜，并经第三分光镜反射后到达所述第二计时器；所述定量修补装置还包括有能减小激光能量、防止从取样镜头出射的激光损伤参照平面的衰减镜片。

所述第四分光镜的反射面的一侧设有第二自动对焦单元，激光束经基底的参照平面反射后入射至所述第四分光镜，该第四分光镜将光束分为两束，一部分反射后到达该第二自动对焦单元进行实时跟踪对焦。

所述定量修补装置还包括有设于所述衰减器与第一分光镜之间光路上的第一反射镜，所述激光源、第一计时器与衰减器的光轴与该第一反射镜镜面法线呈45°角，该第一反射镜镜面法线与所述第一分光镜镜面法线垂直。

本发明还提供一种定量修补方法，其包括：

步骤1：校准，将取样镜头与修补镜头移至基底的参照平面，激发激光，激光经过第一计时器后触发第二计时器开始计时工作，经过第一分光镜后激光形成两条光路，分别通过参考测距系统与实际测距系统到达参照平面后反射回第二计时器，第二计时器记录下两束激光的到达的时间差A秒；