[发明专利]用于执行纹理采样的方法、装置和系统

说明书

本申请是2010年6月29日提交的，申请号为201010220862.7的同名专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及纹理采样。

背景技术

纹理一般指包括重复图案的图像，该重复图案可以用于包装（wrap）图形图案。可以使用基于Nyquist准则的纹理采样技术来对纹理数据进行采样。纹理采样技术正变得越来越复杂并且使用越来越广泛。纹理采样技术可以包括：点采样、双线性过滤、三线性过滤、各向异性过滤（anisotropic filtering）、抗锯齿（anti-aliasing）和其它类似的技术。纹理采样正越来越多地被例如顶点着色器、几何着色器和像素着色器所使用。

此外，这种纹理采样技术的复杂性和使用不断的增加，同时用于执行纹理采样的硬件的复杂性也日益增加。存在至少一些应用程序，它们可能需要使用可以不需要或不用直接访问硬件设备的纹理采样技术。此外，现有的硬件设备可能不完全支持复杂的纹理采样操作，或者现有的硬件设备可能不能有效地执行复杂的纹理采样操作。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供了一种用于执行纹理采样的方法，包括：使用着色语言来实现纹理采样器；通过基于提供给所述纹理采样器的输入值将所述纹理采样器编译为目标机器，从而生成纹理采样器二进制代码；当调用多个着色器中的第一着色器时，至少从所述第一着色器调用所述纹理采样器二进制代码；以及当由所述第一着色器调用所述纹理采样器时，使用由所述纹理采样器生成的第一组采样在图形元素上生成着色效果，其中，所述图形元素包括线和三角形的顶点。

根据本发明的另一个方面，提供了一种用于执行纹理采样的装置，包括：用于使用着色语言来实现纹理采样器的模块；用于通过基于采样器状态和采样器操作将所述纹理采样器编译为目标机器，从而生成纹理采样器二进制代码的模块；用于当调用第一着色器时，从所述第一着色器调用所述纹理采样器二进制代码的模块；以及用于当由所述第一着色器调用所述纹理采样器时，使用由所述纹理采样器生成的第一组采样在图形元素上生成着色效果的模块，其中，所述图形元素包括线和三角形的顶点。

根据本发明的又一个方面，提供了一种用于执行纹理采样的系统，包括：处理器，其中，所述处理器用于支持多个图形应用以及一个或多个图形应用可编程接口；图形处理单元；以及存储器，其耦合到所述处理器和所述图形处理单元，其中，所述图形应用可编程接口包括使用着色语言实现的一个或多个纹理采样器，其中，通过基于采样器状态和采样器操作将所述纹理采样器编译为目标机器，从而生成纹理采样器二进制代码，其中，当调用第一着色器时，从所述第一着色器调用所述纹理采样器二进制代码，以及其中，当由所述第一着色器调用所述纹理采样器时，使用由所述纹理采样器生成的第一组采样在图形元素上生成着色效果，其中，所述图形元素包括线和三角形的顶点。

附图说明

在附图中，通过示例而非通过限制的方式来说明本文描述的发明。为了说明的简单和清楚，附图中说明的部件并不必然按照比例绘出。例如，为了清楚起见，可以相对于其它部件而放大一些部件的尺寸。此外，在适当的情况下，在各个附图中重复使用附图标记以指示对应的或类似的部件。

图1说明了根据一个实施例的、使用纹理采样器的图形处理技术，所述纹理采样器是使用着色语言（shader language）实现的。

图2说明了根据一个实施例的、使用纹理采样器的图形处理技术的三维管线级，其中所述纹理采样器是使用着色语言实现的。

图3是说明了根据一个实施例的、使用着色语言实现的纹理采样器的流程图。

图4说明了根据一个实施例的、描述了使用着色语言的纹理采样过程的流程图。

图5说明了根据一个实施例的、在其中可以实现使用着色语言的纹理采样的计算机系统500。

具体实施方式

以下说明描述了使用纹理采样器来执行纹理采样的技术，所述纹理采样器是用着色语言来实现的。在以下说明中，阐述了许多具体的细节，例如逻辑实现、资源划分、或共享、或复制实现、系统部件的类型和相互关系、以及逻辑划分或集成选择，以便于更为透彻的理解本发明。但是，本领域的技术人员将意识到，可以在没有这些具体细节的情况下实现本发明。在其它实例中，没有详细地示出控制结构、门级电路和全部软件指令序列，以便不模糊本发明。本领域的技术人员根据所包括的说明，将能够在无需过多的实验的情况下实现适当的功能。