[发明专利]一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法

权利要求书

1.一种自对位曝光取向设备，其特征在于，包括：

基台，所述基台用于放置待取向显示面板，所述基台与所述待取向显示面板显示区域对应的区域透明设置；

与所述待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，所述待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；在所述显示面板驱动系统的控制下，控制所述待取向显示面板与所述第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与所述第二像素组相对应的区域为遮光状态；

所述待取向显示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板上设有第一偏振片，所述第一偏振片上设有光取向层；从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光；

第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；

第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，所述第二曝光光源射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。

2.如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：

所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述自然光通过所述第二偏振片射向所述第一基板。

3.如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：

所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上设有第二偏振片，所述线性偏振光的偏振方向与所述第二偏振片的透光轴方向相平行；

或者，所述第一曝光光源发出的光为线性偏振光，所述第二基板上不设置第二偏振片。

4.如权利要求1所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光具体实现方式包括：

所述基台上设置石英板，所述第一曝光光源发出的光为自然光，所述自然光通过所述石英板射向所述第一基板。

5.如权利要求1-4任一项所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述自对位曝光取向设备还包括第一光源控制系统，所述第一光源控制系统具有弧形导轨，控制所述第一曝光光源沿所述弧形导轨运动对所述待取向显示面板进行曝光。

6.如权利要求5所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述弧形导轨的圆心位置位于所述待取向显示面板出光侧的最佳观看点。

7.如权利要求5所述的自对位曝光取向设备，其特征在于，所述自对位曝光取向设备还包括第二光源控制系统，控制所述第二曝光光源能够在与所述待取向显示面板平行的平面内进行水平移动对所述待取向显示面板进行曝光。

8.一种采用权利要求1-7任一项所述的自对位曝光取向设备进行制作相位差板的工艺方法，其特征在于，包括：

将待取向显示面板放置在基台上，将所述待取向显示面板与显示面板驱动系统连接，并且控制所述待取向显示面板与第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与第二像素组相对应的区域为遮光状态；

打开第一曝光光源，使所述第一曝光光源的出射光透过所述基台，透过第一像素组，对与所述第一像素组对应的光取向材料进行曝光取向；

所述第一曝光光源在第一光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第一像素组对应的光取向层的曝光取向；

关闭所述第一曝光光源，打开第二曝光光源，对与所述第二像素组对应的光取向材料进行曝光取向；

所述第二曝光光源在第二光源控制系统的控制下，完成对所述待取向显示面板上全部的与所述第二像素组对应的光取向层的曝光取向；取向完成后，滴入液晶，将第一基板和第二基板进行对盒设置，并对所述液晶进行固化处理。