[发明专利]化合物半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310356243.4 申请日: 2013-08-15
公开(公告)号: CN103681834A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 朱雷;冈本直哉 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/10;H01L21/335;H02M5/458;H03F3/189
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 顾晋伟;董文国
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 化合物 半导体器件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种化合物半导体器件,包括:

由化合物半导体形成的电子渡越层;以及

形成为覆盖所述电子渡越层的电极,其中在所述电子渡越层和所述电极之间插入有绝缘膜,其中

所述电子渡越层的在所述电极下方的部分形成为使得具有第一极性面的第一化合物半导体和具有第二极性面的第二化合物半导体交替布置,并且

在所述第一极性面中的极化电荷具有与在所述第二极性面中的极化电荷相反的极性。

2.根据权利要求1所述的化合物半导体器件,其中所述第一化合物半导体和所述第二化合物半导体在俯视图中以条纹图案平行地交替布置。

3.根据权利要求1所述的化合物半导体器件,其中所述第一化合物半导体和所述第二化合物半导体在俯视图中以镶嵌图案交替布置。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物半导体器件,其中所述电子渡越层的位于所述电极的一侧上的部分由所述第一化合物半导体形成并且具有作为所述第一极性面的表面,以及所述电子渡越层的位于所述电极的另一侧上的部分由所述第二化合物半导体形成并且具有作为所述第二极性面的表面。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的化合物半导体器件,其中所述第一化合物半导体和所述第二化合物半导体平行地交替布置的方向与其中电流在所述电子渡越层的在所述电极下方的部分中流动的方向不平行。

6.一种用于制造化合物半导体器件的方法,包括:

形成化合物半导体电子渡越层;以及

形成覆盖所述电子渡越层的电极,其中在所述电子渡越层和所述电极之间插入有绝缘膜,其中

将所述电子渡越层的在所述电极下方的部分形成为使得具有第一极性面的第一化合物半导体和具有第二极性面的第二化合物半导体交替布置,并且

在所述第一极性面中的极化电荷具有与在所述第二极性面中的极化电荷相反的极性。

7.根据权利要求6所述的方法,其中所述第一化合物半导体和所述第二化合物半导体在俯视图中以条纹图案平行地交替布置。

8.根据权利要求6所述的方法,其中所述第一化合物半导体和所述第二化合物半导体在俯视图中以镶嵌图案交替布置。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的方法,其中所述电子渡越层的位于所述电极的一侧上的部分由所述第一化合物半导体形成并且具有作为所述第一极性面的表面,以及所述电子渡越层的位于所述电极的另一侧上的部分由所述第二化合物半导体形成并且具有作为所述第二极性面的表面。

10.根据权利要求6至9中任一项所述的方法,其中所述第一化合物半导体和所述第二化合物半导体平行地交替布置的方向与其中电流在所述电子渡越层的在所述电极下方的部分中流动的方向不平行。

11.一种电源电路,包括:

变压器;

高压电路;以及

低压电路,其中

所述变压器设置在所述高压电路和所述低压电路之间,并且

所述高压电路包括晶体管,

所述晶体管包括:

由化合物半导体形成的电子渡越层;以及

形成为覆盖所述电子渡越层的电极,其中在所述电子渡越层和所述电极之间插入有绝缘膜,其中

所述电子渡越层的在所述电极下方的部分形成为使得具有第一极性面的第一化合物半导体和具有第二极性面的第二化合物半导体交替布置,并且

在所述第一极性面中的极化电荷具有与在所述第二极性面中的极化电荷相反的极性。

12.一种高频放大器,所述高频放大器将输入的高频电压放大并且随后将所放大的高频电压输出,所述放大器包括:

晶体管,所述晶体管包括:

由化合物半导体形成的电子渡越层;以及

形成为覆盖所述电子渡越层的电极,其中在所述电子渡越层和所述电极之间插入有绝缘膜,其中

所述电子渡越层的在所述电极下方的部分形成为使得具有第一极性面的第一化合物半导体和具有第二极性面的第二化合物半导体交替布置,并且

在所述第一极性面中的极化电荷具有与在所述第二极性面中的极化电荷相反的极性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社,未经富士通株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310356243.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top