[发明专利]一种阵列基板及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201310352419.9 | 申请日： | 2013-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103424925A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 金相秦;权基瑛 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 230011 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种阵列基板，在所述阵列基板的边框区域包括第一金属层和第二金属层，以及位于所述第一金属层和所述第二金属层之间的绝缘层，其特征在于：所述第一金属层包括引线图形，所述第二金属层包括遮光图形，所述遮光图形遮挡所述引线图形以外的部分所对应的区域。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：所述遮光图形的部分或全部由多个岛状图形组成，相邻的所述岛状图形之间存在缝隙。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：所述第一金属层为栅极金属层，所述引线图形为栅极引线图形，所述第二金属层为数据线金属层。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：所述第一金属层为数据线金属层，所述引线图形为数据线引线图形，所述第二金属层为栅极金属层。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：所述第一金属层或所述第二金属层从上至下依次由钼层、铝层、钼层复合形成。
6.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成栅极金属层，所述栅极金属层包括位于所述衬底基板的边框区域的栅极引线图形；
在所述衬底基板上形成栅绝缘层；
在所述衬底基板上形成数据线金属层，所述数据线金属层包括位于所述衬底基板的边框区域的遮光图形，且所述遮光图形遮挡所述栅极引线图形以外的部分所对应的区域。
7.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成栅极金属层，所述栅极金属层包括位于所述衬底基板的边框区域的遮光图形；
在所述衬底基板上形成栅绝缘层；
在所述衬底基板上形成数据线金属层，所述数据线金属层包括位于所述衬底基板的边框区域的数据线引线图形，且所述遮光图形遮挡所述数据线引线图形以外的部分所对应的区域。
8.一种显示装置，其特征在于：包括彩膜基板和权利要求1至5任一项所述的阵列基板。
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