[发明专利]在地下多孔岩层中使用两口相邻井的目标定向断裂布置

权利要求书

1.一种在一个地下岩层中形成一个或多个目标断裂的方法，所述方法包括步骤：

a.在所述岩层中对两个井进行钻井和完井；

b.对所述井进行调节以创建一个利于形成一个连接所述两口井的断裂区的应力条件；以及

c.在所述岩层中启动和传播所述断裂区区。

2.根据权利要求1所示的方法，其中，这两口井彼此邻近并且彼此偏移。

3.根据权利要求1所示的方法，其中，所述井是裸眼井

4.根据权利要求1所示的方法，其中，所述井的至少一部分是套管井。

5.根据权利要求4所示的方法，其中，对所述井的至少一部分进行固井。

6.根据权利要求1所示的方法，其中，所述两口井的每一口的至少一部分与所述压裂岩层接通。

7.根据权利要求4所示的方法，其中，所述两口井的每一口包括沿着与被压裂岩层提供连通的每一口井的至少一部分的钻孔井段。

8.根据权利要求5所示的方法，其中，对所述水泥进行钻孔以提供所述井与所述被压裂岩层之间的连通。

9.根据权利要求5所示的方法，其中，对所述井的每一个的第一部分进行套管和固井以及对所述井的第二部分不进行套管和固井，所述第二部分提供与所述被压裂岩层的接通。

10.根据权利要求7所示的方法，其中，所述两口井的每一个的钻孔井段彼此邻近以使所述井相互影响。

11.根据权利要求10所示的方法，其中，在SAGD工艺中将所述两口井钻成水平敞口井。

12.根据权利要求1所示的方法，其中，调节所述井用来改变选自由所述两口井周围的岩层中的孔压力和孔温度组成的组的孔条件。

13.根据权利要求12所示的方法，其中，调节所述井用来通过选自包括孔弹性和热弹性的组中的机制来改变所述岩层中的原始原位应力场。

14.根据权利要求1所示的方法，其中，调节所述井包括以小于引发岩层中断裂所需注入速度的注入速度将所述激发剂注入所述井。

15.根据权利要求14所示的方法，其中，以低于调节的第一阶段期间岩层的原始原位最小应力的注入压力，将所述激发剂注入。

16.根据权利要求15所示的方法，其中，将所述注入压力升高超过调节的第二阶段期间的原始原位最小应力。

17.根据权利要求14所示的方法，其中，将所述激发剂同时注入所述两口井。

18.根据权利要求14所示的方法，其中，交替地将所述激发剂注入所述两口井的第一口和第二口井中。

19.根据权利要求14所示的方法，其中，以恒定的注入速度注入所述激发剂。

20.根据权利要求14所示的方法，其中，以变化的注入速度注入所述激发剂。

21.根据权利要求20所示的方法，其中，所述激发剂注入速度是逐渐增加。

22.根据权利要求20所示的方法，其中，提高或降低所述激发剂注入速度以实现岩层调节。

23.根据权利要求14所示的方法，其中，在调节期间，所述激发剂注入速度或注入压力在所述两口井之间变化。

24.根据权利要求14所示的方法，其中，所述激发剂是选自由水、汽、溶剂类、合适的化学药品类的溶液及其混合物组成的组中的一种或多种材料。

25.根据权利要求24所示的方法，其中，所述激发剂的粘度至少为一个1厘泊(cp)。

26.根据权利要求24所示的方法，其中，激发剂温度选自由低于、等于或高于所述岩层的原始温度组成的组。

27.根据权利要求24所示的方法，其中，所述激发剂类型和温度在所述两口井之间变化。

28.根据权利要求14所示的方法，其中，启动所述断裂区包括以大于调节所需的注入压力的注入压力注入一种激发剂。

29.根据权利要求28所示的方法，其中，将所述激发剂的注入应用于所述两口井中的其中一口。