[发明专利]一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法有效

专利信息
申请号: 201310352313.9 申请日: 2013-08-13
公开(公告)号: CN103436851A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 陈桂涛;孙天乐;孙强;黄西平 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 李娜
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 磁控溅射 工艺 电弧 熄灭 方法
【权利要求书】:

1.一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:

步骤1:利用电压、电流霍尔传感器采集磁控溅射电源输出电压电流,以电流幅值和电压跌落速率共同作为判断依据进行电弧侦测;

步骤2:在电源控制器中对步骤1侦测到的电弧进行灭弧处理。

2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法,其特征在于,所述的步骤1以电流幅值和电压跌落速率为判断依据进行电弧侦测具体按照以下步骤实施:利用电压侦测法和电流侦测法同时侦测电弧,只要有一种方法先检测到电弧,即认为电弧产生。

3.根据权利要求2所述的用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法,其特征在于,所述的电压侦测法具体按照以下步骤实施:在磁控溅射电源控制器中对连续采集到的电压值进行计算,即将当前采集到的电压值与前一次采集到的电压值作差,所得结果与两次采集时间间隔相除,得出电压跌落速率,当计算出的结果为负值且绝对值大于设定的经验值时,即认为电弧产生。

4.根据权利要求2所述的用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法,其特征在于,所述的电流侦测法具体按照以下步骤实施:

将采集到的电流与设定的第一电流最大值进行比较,当采集到的电流值不小于第一电流最大值时,即认为电弧产生,其中,第一电流最大值为磁控溅射电源最大输出电流的1.1倍。

5.根据权利要求1所述的用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法,其特征在于,所述的步骤2中的灭弧处理具体按照以下步骤实施:

步骤2.1、将步骤1中产生的电弧分为两类,一类产生的过电流较小,不小于第一电流最大值且小于第二电流最大值,对设备和工艺的危害较小,称之为第一电弧类型,另一类产生的过电流较大,电流不小于第二电流最大值,对设备和工艺危害较大,称之为第二电弧类型,其中,所述的第二电流最大值为磁控溅射电源最大输出电流的3倍;

步骤2.2、当出现第一电弧类型时,进行第一灭弧处理,具体按照以下步骤实施:电源控制器首先将输出电压限制到磁控溅射电源的最小输出电压,然后延时一段时间,将输出电压恢复至第一灭弧处理之前的值,然后返回步骤2.1;

步骤2.3、当出现第二电弧类型时,进行第二灭弧处理,具体按照以下步骤实施:

步骤2.3.1、电源控制器首先将输出电压限制到磁控溅射电源的最小输出电压,然后延时一段时间;

步骤2.3.2、判断第二电弧类型信号是否消失,判断方法同步骤2.1,第二电弧类型信号消失,则延时计数器清零,恢复输出电压,返回步骤1;第二电弧类型信号未消失,则延时次数计数器加1;

步骤2.3.3、判断延时次数计数器是否达到设定值,延时次数计数器未达到设定值,则返回步骤2.3.1;延时次数计数器达到设定值,则停机。

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