[发明专利]掺杂高浓度钕的钇铝石榴石晶体的生长方法无效
申请号: | 201310344207.6 | 申请日: | 2013-08-08 |
公开(公告)号: | CN103422173A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 万文;万黎明 | 申请(专利权)人: | 巢湖市环宇光学技术有限公司 |
主分类号: | C30B29/28 | 分类号: | C30B29/28;C30B15/00 |
代理公司: | 安徽汇朴律师事务所 34116 | 代理人: | 胡敏 |
地址: | 230001 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 掺杂 浓度 石榴石 晶体 生长 方法 | ||
1.掺杂高浓度钕的钇铝石榴石晶体的生长方法,其特征在于,采用熔体提拉法制备,包括如下步骤:
(1)按预设的掺钕浓度进行计算、称重配好原料,混合均匀,然后装入乳胶模具中密封并通过等静压成型;
(2)将籽晶放入籽晶杆中;
(3)将成型的原料放入晶体炉中直径为120mm的铱金坩埚内,调好温场后抽真空,然后充入高纯氩气进行保护;
(4)采用中频电源感应加热升温,使成型的原料全部熔化后,熔体液流线清晰稳定时开始缓慢下籽晶,至籽晶与熔体表面接触;
(5)恒温2小时,开始提拉籽晶,待籽晶表面稍熔后,提拉并转动籽晶杆,开始晶体生长,晶体生长包括放肩、等径生长、收尾和降温四个阶段,其中放肩角度控制在28-35°,当其下端直径为40mm时,改变提拉速度并调整温度开始转肩使其直径为42-43mm等径生长,等径生长转速为13-17转/分,提拉速度为0.6-0.8mm/h,晶体等径生长30-40mm长度时改变转速与提拉速度使其下端直径为40-41mm等径生长;等径生长达到预定长度后,缓慢升温收尾,从侧面观察收尾段形成上大下小的等腰梯形;至下角角度为102.5-105°且下端直径为3-5mm时收尾结束,开始缓慢降温提拉铱金坩埚内原料,保护坩埚,降到合适温度点提拉杆停转,继续缓慢降温,当中频电源回流降至200A以下时,关闭电源,进行自然降温;
(6)经过24小时自然降温后,取出晶体。
2.如权利要求1所述的掺杂高浓度钕的钇铝石榴石晶体的生长方法,其特征在于,在进行预设的掺钕浓度的钇铝石榴石晶体制备前,先制备两次掺钕浓度较低的钇铝石榴石晶体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巢湖市环宇光学技术有限公司,未经巢湖市环宇光学技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310344207.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多纤混色半精纺抗菌纱线及其纺纱工艺
- 下一篇:一种金刚切割线电镀装置