[发明专利]一种纳米激光器激光合束器件的制备方法

权利要求书

1.一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：

步骤（1）、在已制备得到的曲面沟槽上沉积多层膜，共沉积5-20组，每组由2层膜层组成，每层膜厚=15-30nm，所述多层膜总厚度为150-1200nm，其中Ag层和SiO2层交替沉积；

步骤（2）、在曲面多层膜上采用涂覆、固化的方法进行平坦化，控制平坦化之后的平面高低起伏<10nm，表面粗糙度RMS<2nm；

步骤（3）、对步骤（2）中得到平坦化之后的结构进行多层膜减薄（刻蚀）工艺，通过控制离子束刻蚀机的束流大小、入射角度、气体流量与基底温度等工艺条件，使减薄之后的曲面多层膜的深度<50nm；

步骤（4）在步骤（3）中得到的减薄之后的曲面多层膜上涂布一层可固化的溶胶层，溶胶层在表面张力与重力的双重作用下会在曲面多层膜里形成弧面结构，经加热或紫外光照射处理后溶胶层固化，所述溶胶层的厚度为2nm至100nm；

步骤（5）在步骤（4）中得到的溶胶层上沉积一层金属Ag膜层，所述金属Ag膜层的厚度为2nm至100nm；

步骤（6）在步骤（5）中所沉积的金属Ag层上交替涂覆固化溶胶层和沉积Ag膜层，得到溶胶层和Ag层交替组成的多层弧面膜层，即制备得到这种纳米激光器激光合束器件。

2.根据权利要求1所述的一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中所制备的曲面多层膜可以通过磁控溅射镀膜、真空蒸发镀膜、电子束蒸发镀膜，也可以采用混合方式镀膜。

3.根据权利要求1所述的一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中采用的平坦化材料可以为紫外光刻胶、压印胶也可以为PMMA等聚合物。

4.根据权利要求1所述的一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中曲面多层膜的减薄工艺可以利用RIE、IBE或ICP来实现，，刻蚀所选气体可以是SF6、CHF3或Ar。

5.根据权利要求1所述的一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，其特征在于：所述步骤（4）中涂覆的溶胶层包括SOG或PMMA。

6.根据权利要求1所述的一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，其特征在于：所述步骤（5）中沉积的金属Ag膜可以利用真空蒸发沉积，也可以利用磁控溅射沉积。

7.根据权利要求1所述的一种纳米激光器激光合束器件的制备方法，其特征在于：所述步骤（6）中溶胶层与Ag层交替组成的多层弧面膜层的层数为1-20层。