[发明专利]含有氟化的第二组分的结构化有机膜感光器层

说明书

背景技术

在电子摄影（也称为静电印刷）、电子摄影成像或静电摄影成像中，在导电层上含有光电导绝缘层的电子摄影板、鼓、带等（成像构件或感光器）的表面首先均匀静电带电。然后，成像构件暴露于激活电磁辐射的图案，如光。辐射选择性地耗散光电导绝缘层的照明区域上的电荷，同时在未照明区域上留下静电潜像。然后，可通过将微细验电标记粒子沉积于光电导绝缘层的表面上而使该静电潜像显影，以形成可见图像。然后可将所得可见图像由成像构件直接或间接地（如通过转印器（transfer）或其他构件）转印至印刷基材，如幻灯片或纸张。成像过程可使用可重复使用的成像构件而重复多次。

尽管可使用多层带式或鼓式感光器获得优良的色粉图像，但已发现随着更高级更高速的电子摄影复印机、复写机和打印机的开发，对印刷品质存在更大的需要。必须保持带电图像与偏置电位的微妙平衡，以及色粉和/或显影剂的特性。这另外约束了感光器制造的品质，因此另外约束了制造产率。

成像构件通常暴露于反复的电子摄影循环，所述电子摄影循环使暴露的电荷传输层或其可选择的顶层经受机械磨损、化学侵蚀和热。该反复循环导致暴露的电荷传输层的机械特性和电气特性的逐渐劣化。在持久使用过程中的物理和机械损坏，尤其是表面刮擦缺陷的形成，是带式感光器的失效的主要原因之一。因此，希望改进感光器的机械坚固性，特别是增加它们的耐刮擦性，由此延长它们的使用寿命。另外，希望增加耐微震动性，从而在印刷品中使图像重影、背景阴影等达到最少。

提供保护外涂层为延长感光器的使用寿命的常规方式。通常，例如，已使用聚合物抗刮擦和抗裂外涂层作为设计用于延长感光器的寿命的坚固外涂层。然而，常规外涂层配方在印刷品中显示出重影和背景阴影。改进耐微震动性将提供更稳定的成像构件，从而获得改进的印刷品质。

尽管已采用各种方法用于形成成像构件，但仍然需要改进的成像构件设计，以提供改进的成像性能和更长的寿命，降低人类和环境健康风险等。

本文描述的结构化有机膜（SOF）组合物为特别化学和机械坚固的材料，其显示出许多优于常规感光器材料的性质，并通过防止由静电印刷过程所导致的化学降解途径而增加感光器寿命。另外，可将诸如抗氧化剂的添加剂添加至本公开的SOF组合物，以改进含SOF的成像构件（如感光器）的性质。

发明内容

在实施例中提供了一种成像构件，其包括基材、电荷产生层、电荷传输层和任选的外涂层，其中最外层为包含结构化有机膜（SOF）的成像表面，所述结构化有机膜包含多个片段（segment）和多个连接体（linker），包括至少一个电活性片段和氟化的第二组分。

附图说明

图1A-O为示例性构造单元的示意图，其中描绘了所述构造单元的对称元素。

图2表示掺入了SOF的一个示例性感光器的简化侧视图。

图3表示掺入了SOF的第二示例性感光器的简化侧视图。

图4表示掺入了SOF的第三示例性感光器的简化侧视图。

具体实施方式

“结构化有机膜”、“SOF”或“SOF组合物”通常指共价有机骨架（COF），其在宏观水平上为膜。

成像构件可包括包含SOF的最外层，所述SOF包括至少第一电活性片段（如具有空穴传输性质的片段）和任选的第二片段（其可任选地为电活性的），和氟化的第二组分。

SOF可通过一种或多种分子构造单元的反应而制得，其中分子构造单元中的至少一种具有电荷传输分子功能（或者一旦反应，产生具有空穴传输分子功能的片段）。

所述分子构造单元可衍生自一种或多种含有碳或硅原子核、烷氧基核、氮或磷原子核、芳基核、碳酸酯核、碳环核，碳双环核或碳三环核的构造单元；以及含有低聚噻吩核的构造单元。

一种或多种分子构造单元可相对于100重量份SOF以约5至约100重量%，如至少约50重量%，或至少约75重量%的百分比分别单独地或完全地存在于在成像构件的最外层中所包含的SOF中。

在实施例中，成像构件的最外层可包含SOF，其中在SOF中任何所需量的片段可为电活性的。例如，电活性片段的百分比可大于约10重量%，如大于约30重量%，或大于约50重量%，且电活性片段的上限百分比可为100%，如小于约95重量%，或小于约70重量%。

在实施例中，本公开的成像构件和/或感光器的最外层可以以大于SOF的约40重量%，如SOF的约50重量%至约90重量%，或SOF的约60重量%至约80重量%的量，在最外层的SOF中包含第一电活性片段和第二电活性片段。