[发明专利]磁控溅射真空室均匀进气装置无效
| 申请号： | 201310334828.6 | 申请日： | 2013-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN103396008A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 马磊 | 申请（专利权）人： | 蚌埠雷诺真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/09 | 分类号： | C03C17/09 |
| 代理公司： | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人： | 张建宏 |
| 地址： | 233010 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 真空 均匀 装置 | ||
【权利要求书】：
1.磁控溅射真空室均匀进气装置，一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接，其特征在于：排气管的另一端与一只层流管的入口端相接，层流管具有一只一端开口的外套管，在外套管内装有一只内套管，内套管与外套管间形成有封闭的环形空腔，内套管的管壁上开有一组第一排气孔，外套管的管壁上开有一组第二排气孔，外套管的开口端为层流管的入口端。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射真空室均匀进气装置，其特征在于：内套管上的一组第一排气孔处在一条直线上，外套管上的一组第二排气孔处在一条直线上，且一组第一排气孔与一组第二排气孔相背离。
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