[发明专利]盖板玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及电子器件领域，特别是涉及一种玻璃盖板及其制备方法。

背景技术

触控面板由于其操作便利性等优点广泛的应用于智能手机及平板电脑等电子设备。触控面板包括一盖板玻璃。盖板玻璃位于触控面板的最外层，从而在触控面板使用过程中经常与使用者接触。同时，作为触控面板的一部分，需要盖板玻璃透光率较高。然而，目前盖板玻璃的透光率较差。

发明内容

基于此，有必要提供一种透光率较高的盖板玻璃及其制备方法。

一种盖板玻璃，包括依次层叠的玻璃基板、折射率调整层及耐磨层，所述折射率调整层包括第一低折射率透明光学膜、高折射率透明光学膜及第二低折射率透明光学膜，该第一低折射率透明光学膜形成于玻璃基板表面，该高折射率透明光学膜形成于该第一低折射率透明光学膜的远离玻璃基板一侧的表面，该第二低折射率透明光学膜形成于该耐磨层的表面并位于该耐磨层与高折射率透明光学膜之间，所述第一、第二低折射率透明光学膜的折射率为1.38～1.6，该高折射率透明光学膜的折射率为1.6～2.4，所述耐磨层为折射率大于该第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜。

在其中一个实施例中，所述折射率调整层还包括设置于所述高折射率透明光学膜与第二低折射率透明光学膜之间的至少两层透明光学膜，使得该折射率调整层具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。

在其中一个实施例中，所述耐磨层为Si₃N₄膜，折射率为2.1。

在其中一个实施例中，所述高折射率透明光学膜的厚度为10nm～30nm。

在其中一个实施例中，所述第一低折射率透明光学膜及所述第二低折射率透明光学膜的厚度为10nm～30nm。

在其中一个实施例中，所述耐磨层的厚度为20nm～40nm。

在其中一个实施例中，所述玻璃基板的厚度为0.3mm～1.0mm。

在其中一个实施例中，所述玻璃基板的折射率为1.51。

一种盖板玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在玻璃基板表面磁控溅射制备折射率调整层，所述折射率调整层包括第一低折射率透明光学膜、高折射率透明光学膜及第二低折射率透明光学膜，该第一低折射率透明光学膜形成于玻璃基板表面，该高折射率透明光学膜形成于该第一低折射率透明光学膜的远离玻璃基板一侧的表面，该第二低折射率透明光学膜形成于该高折射率透明光学膜表面，所述第一、第二低折射率透明光学膜的折射率为1.38～1.6，该高折射率透明光学膜的折射率为1.6～2.4；及

在所述低折射率调整层的表面磁控溅射制备耐磨层，所述耐磨层为折射率大于该第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜。

在其中一个实施例中，所述折射率调整层还包括设置于所述高折射率透明光学膜与第二低折射率透明光学膜之间的至少两层透明光学膜，使得该折射率调整层具有高、低折射率透明光学膜交替层叠的结构。

上述盖板玻璃及其制备方法，耐磨层为折射率大于第一、第二低折射率透明光学膜的透明光学膜，折射率调整层和耐磨层形成由高折射率透明光学膜和低折射率透明光学膜交替层叠的结构，符合高透过率的折射率高低交替的原理，因此，上述盖板玻璃的透光率较高。

附图说明

图1为一实施方式的盖板玻璃的结构示意图；

图2为另一实施方式的盖板玻璃的结构示意图；

图3为一实施方式的盖板玻璃的制备方法的流程图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

如图1所示，一实施方式的盖板玻璃100，包括依次层叠的玻璃基板110、折射率调整层130及耐磨层150。

玻璃基板110的厚度为0.3mm～1.0mm。优选的，玻璃基板110的材料为硅铝酸盐玻璃，厚度为0.5mm。玻璃基板110的折射率优选为1.51。

折射率调整层130形成于玻璃基板110的表面。