[发明专利]一种用于激光显示的红光半导体面阵光源装置有效
| 申请号: | 201310326106.6 | 申请日: | 2013-07-30 |
| 公开(公告)号: | CN103412406A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
| 发明(设计)人: | 孔庆善;董辉;张运方;方青;刘育梁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B27/48;G03B21/20;H01S5/183;H01S5/42 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 激光 显示 红光 半导体 光源 装置 | ||
1.一种用于激光显示的红光半导体面阵光源装置,其包括VCSEL面阵和微透镜阵列;其中,所述VCSEL面阵至少包括多个VCSEL单元,所述VCSEL单元用于发出圆化激光光束;所述微透镜阵列由多个微透镜构成,用于对所述VCSEL面阵输出的激光光束进行准直圆化后输出。
2.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述多个VCSEL单元通过倒装焊在基板上组成,且所述VCSEL单元的输出波长为630nm-670nm;所述微透镜阵列通过下述方式之一制作:多成分玻璃基板上用选择性离子交换法来制作;在结晶化玻璃基板上采用光热法来制作;在硅基板上用离子束刻蚀法来制作。
3.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述VCSEL阵列在长宽方向上VCSEL单元的数目确定为16∶9。
4.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述激光器面阵光源结构还包括场镜;所述场镜放置在微透镜阵列后面,用于将单个VCSEL单元发出的圆化光束扩束放大,使得每个VCSEL单元发出的圆化光束被放大后尺寸一致。
5.如权利要求4所述的光源装置,其特征在于,所述激光器面阵光源结构还包括光调制器;所述经场镜放大后的每个VCSEL单元的圆化光束面积与所述光调制器的面积相同,且均重叠投射至所述光调制器上;所述光调制器用于调制透射指其上的光束,并显示相应的图像。
6.如权利要求2所述的光源装置,其特征在于,所述VCSEL面阵由倒装焊在基板上的多个VCSEL单元形成,其具体结构包括:基板以及位于基板上的多个VCSEL单元、对准标记、P电极和N电极;其中,所述多个VCSEL单元通过键合线与P电极键合;所述对准标记用于在倒装焊所述多个VCSEL单元时与基板上的相应位置对准。
7.如权利要求1-6任一项所述的光源装置,其特征在于,所述多个VCSEL单元中的每一个的结构由底向上依次包括:生长在衬底背面的N型电极、衬底、生长在衬底正面的P型C掺杂的DBR层、独立限制异质结、有源区、N型Si掺杂的DBR层、阻挡层和P型电极。
8.如权利要求7所述的光源装置,其特征在于,所述多个VCSEL单元中的每一个的有源区由3或4层压应变InGaP量子阱及独立限制异质结中的Al0.5GaInP和Al0.7GaInP势垒层构成,其反射波长为650nm。
9.如权利要求7所述的光源装置,其特征在于,所述N型Si掺杂的DBR层和P型C掺杂的DBR层分别由55层AlAs/Al0.5Ga0.5As和35层Al0.95GaAs/Al0.5GaAs交替生长形成。
10.如权利要求7所述的光源装置,其特征在于,所述阻挡层用于实现横向电流的控制,其通过湿化学刻蚀台阶后,经过选择性氧化30nm厚AlAs层构成。
11.如权利要求7所述的光源装置,其特征在于,所述N型电极采用蒸发淀积Ge/Au/Ni/Au形成,所述P型电极采用蒸发淀积Ti/Pt/Au形成。
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