[发明专利]用于表面处理的组合物、制备表面处理的制品的方法及表面处理的制品

权利要求书

1.一种用于基底的表面处理的组合物，所述组合物包含：

硅氧烷聚合物，按所述组合物的总重量计，所述硅氧烷聚合物在所述组合物中以从0.01至0.5重量％的量存在且包括重复的R₂SiO_2/2单元，其中R为独立地选择的取代或未取代的烃基；以及

溶剂，所述溶剂不同于所述硅氧烷聚合物，并且按所述组合物的总重量计，在所述组合物中以从90.0至99.99重量％的量存在。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述硅氧烷聚合物还包括RSiO_3/2单元和/或SiO_4/2单元。

3.根据权利要求1和2中任一项所述的组合物，其中所述硅氧烷聚合物包括选自能水解基团、烯基、或它们的组合的端基。

4.根据权利要求1和2中任一项所述的组合物，其中所述硅氧烷聚合物具有以下通式(A)：

(X)_3-a(R)_a-Si-(CH₂)_b-(O)_c-((SiR₂-O)_d-SiR₂)_e-(CH₂)_f-[((SiR₂-O)_g-SiR₂)_h-(CH₂)_i]_j-((SiR₂-O)_k-SiR₂)_l-(O)_m-(CH₂)_n-Si-(X)_3-p(R)_p；

其中X为独立地选择的能水解基团；R定义如上；a和p各自为独立地选自0至3的整数；b、f、i和n各自为独立地选自0至10的整数；c和m各自独立地为0或1；d、g和k各自为独立地选自0至200的整数，前提条件是d、g和k不同时为0；e、h和l各自为独立地选自0和1的整数，前提条件是e、h和l不同时为0；并且j为选自0至5的整数；

前提条件是当下标d为0时，下标e也为0；当下标d大于0时，下标e为l；当下标g为0时，下标h、i和j也为0；当下标g大于1时，下标h为1，并且下标j为至少1；当下标k为0时，下标l也为0；并且当下标k大于0时，下标l为1。

5.根据权利要求4所述的组合物，其中所述硅氧烷聚合物的通式(A)中由X表示的所述能水解基团独立地选自H、卤化物基团、-OR³、-NHR³、-NR³R⁴、-OOC-R³、O-N＝CR³R⁴、O-C(＝CR³R⁴)R⁵和-NR³COR⁴，其中R³、R⁴和R⁵各自独立地选自H和C₁-C₂₂烃基，并且其中R³和R⁴任选地可形成烷基氨基中的环胺。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的组合物，其中所述溶剂包括挥发性甲基硅氧烷流体。

7.根据权利要求6所述的组合物，其中所述挥发性甲基硅氧烷流体选自六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷、以及它们的组合。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的组合物，所述组合物基本上由所述硅氧烷聚合物和所述溶剂组成。

9.一种制备表面处理的制品的方法，所述方法包括将权利要求1所述的组合物施加到制品的表面上以在所述制品的所述表面上形成层的步骤。

10.根据权利要求9所述的方法，其中施加所述组合物的所述步骤选自由浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹面涂布、溅射、槽式涂布、以及它们的组合组成的组。