[发明专利]一种显示基板及其制造方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵，其特征在于，所述显示基板还包括：形成于所述衬底基板上的防反射结构，所述防反射结构包括多个第一凸状结构；

其中，所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述防反射结构位于所述衬底基板和所述黑矩阵之间。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述显示基板为彩膜基板，所述防反射结构位于所述彩膜基板的远离所述黑矩阵的一侧的表面。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一凸状结构包括透明光刻胶层和/或透明树脂层。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述防反射结构还包括所述第一凸状结构底部的膜材层，所述膜材层平铺在所述衬底基板上，且位于所述第一凸状结构和所述衬底基板之间。

6.根据权利要求1-5所述的显示基板，其特征在于，所述第一凸状结构的宽度以及相邻的两个所述第一凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；

所述第一凸状结构的高度大于等于所述第一凸状结构的宽度。

7.根据权利要求1-5所述的显示基板，其特征在于，所述防反射结构还包括多个第二凸状结构，所述第二凸状结构位于所述黑矩阵对应区域之外；且相邻的所述第二凸状结构之间、相邻的所述第一凸状结构和所述第二凸状结构之间的距离均小于等于可见光的波长。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述第二凸状结构包括：

涂覆于所述膜材层表面并通过掩膜板进行曝光显影和刻蚀工艺处理形成的所述透明光刻胶层和/或所述透明树脂层。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述膜材层的材料为透明光刻胶或透明树脂。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一所述显示基板。

11.一种显示基板的制造方法，所述显示基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵，其特征在于，所述方法包括：

在所述衬底基板上形成防反射结构，所述防反射结构包括多个第一凸状结构；

其中，所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应。

12.根据权利要求11所述的制造方法，其特征在于，在所述衬底基板与所述黑矩阵之间制作所述防反射结构。

13.根据权利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板，在所述彩膜基板的远离所述黑矩阵的一侧的表面制作所述防反射结构。

14.根据权利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述第一凸状结构包括透明光刻胶层和/或透明树脂层。

15.根据权利要求11所述的制造方法，其特征在于，

在所述第一凸状结构和所述衬底基板之间形成平铺于所述衬底基板上的膜材层；

其中，所述防反射结构还包括所述膜材层。

16.根据权利要求11-15所述的制造方法，其特征在于，所述第一凸状结构的宽度以及相邻的两个所述第一凸状结构的间距均小于等于可见光的波长；

所述第一凸状结构的高度大于等于所述凸状结构的宽度。

17.根据权利要求11-15所述的制造方法，其特征在于，

在所述黑矩阵对应区域之外制作多个第二凸状结构，且相邻的所述第二凸状结构之间、相邻的所述第一凸状结构和所述第二凸状结构之间的距离均小于等于可见光的波长；

其中，所述防反射结构还包括所述多个第二凸状结构。

18.根据权利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述第二凸状结构包括：

涂覆于所述膜材层表面并通过掩膜板进行曝光显影和刻蚀工艺处理形成的所述透明光刻胶层和/或所述透明树脂层。

19.根据权利要求18所述的制造方法，其特征在于，所述膜材层的材料为透明光刻胶或透明树脂。