[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括：基板，形成在所述基板一侧的薄膜晶体管和钝化层，并且所述阵列基板划分为反射区和透射区；

其特征在于，所述钝化层远离所述基板一侧的反射区形成有绝缘层；

所述绝缘层远离所述基板的一侧形成有用于对入射光进行漫反射的纳米粒子层。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述纳米粒子层包含：纳米二氧化钛粒子、纳米三氧化二铝粒子和/或纳米氧化锌粒子。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层采用树脂或者二氧化硅材料。

4.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至3任一项所述的阵列基板。

5.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上形成薄膜晶体管和钝化层；

在所述钝化层的反射区上形成绝缘层图案；

在所述绝缘层上涂覆掺杂有纳米粒子的光刻胶;

对所述光刻胶进行曝光处理，形成纳米粒子层。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：对形成有所述纳米粒子层的基板进行烘干处理。

7.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在所述绝缘层上涂覆掺杂有纳米粒子的光刻胶的步骤具体为：采用掩膜板遮蔽所述阵列基板的透射区，在所述绝缘层上涂覆掺杂有纳米粒子的光刻胶。

8.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述纳米粒子为纳米二氧化钛粒子、纳米三氧化二铝粒子和/或纳米氧化锌粒子。

9.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘层采用树脂或者二氧化硅材料。