[发明专利]光扫描单元和包括其的电子照相成像设备有效

专利信息
申请号: 201310312618.7 申请日: 2013-07-24
公开(公告)号: CN103809289A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 朴基成 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G02B26/12 分类号: G02B26/12;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 扫描 单元 包括 电子 照相 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种光扫描单元,包括:

光源,根据图像信号发射光束;

光偏转器,偏转和扫描从所述光源发射的所述光束;以及

同步探测光学系统,包括通过接收被所述光偏转器偏转和扫描的所述光束的一部分来探测同步信号的同步探测传感器和设置在所述光偏转器与所述同步探测传感器之间的同步探测透镜,

其中所述同步探测透镜是变形透镜,在该变形透镜中在第一方向上的折射能力和在不同于所述第一方向的第二方向上的折射能力是不同的,其中所述同步探测透镜的所述第一方向关于主扫描方向倾斜,入射到所述同步探测透镜上的光束在所述主扫描方向上被扫描。

2.如权利要求1所述的光扫描单元,其中当沿着正交于所述主扫描方向的辅扫描平面观看时,从所述光源发射的所述光束倾斜地入射到所述光偏转器的偏转表面上。

3.如权利要求2所述的光扫描单元,其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的△θ角是通过分别在所述主扫描方向和垂直于所述主扫描方向的辅扫描方向上行进到所述同步探测透镜的所述光束关于所述光偏转器的入射角α和入射角β而被确定,所述角△θ独立于所述光偏转器的表面塌陷的程度。

4.如权利要求3所述的光扫描单元,其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的所述角△θ大于在所述辅扫描方向上所述光束关于所述光偏转器的入射角β。

5.如权利要求3所述的光扫描单元,其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的所述角△θ通过以下等式表示:

<等式>

Δθ=arctan(tanα·tanβ)。

6.如权利要求5所述的光扫描单元,其中所述同步探测传感器具有矩形的探测表面,所述探测表面的宽度方向以由以上等式表示的所述角△θ倾斜。

7.如权利要求3所述的光扫描单元,其中在所述辅扫描方向上所述光束关于所述光偏转器的所述入射角β在0至10度的范围内。

8.如权利要求3所述的光扫描单元,其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的所述角△θ在3至20度的范围内。

9.如权利要求1所述的光扫描单元,其中所述同步探测传感器具有矩形的探测表面,所述探测表面的宽度方向关于所述主扫描方向倾斜。

10.如权利要求9所述的光扫描单元,其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述探测表面的宽度方向彼此平行。

11.如权利要求1所述的光扫描单元,其中所述同步探测透镜在所述第二方向上的折射能力大于所述同步探测透镜在所述第一方向上的折射能力。

12.如权利要求1所述的光扫描单元,其中所述变形透镜的至少一个外表面正交于所述主扫描方向,所述变形透镜的所述第一方向关于正交于所述主扫描方向的所述至少一个外表面倾斜。

13.如权利要求1所述的光扫描单元,其中所述变形透镜的至少一个外表面正交于所述第一方向,正交于所述第一方向的所述至少一个外表面关于所述主扫描方向倾斜。

14.一种电子照相成像设备,包括:

光电导主体;

如权利要求1至13中任一项所述的光扫描单元,所述光扫描单元在所述光电导主体的被扫描的表面上扫描光束以形成静电潜像;以及

显影单元,通过将调色剂供应到所述静电潜像来显影所述静电潜像。

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