[发明专利]磁流变液综合容器罐的内壁保护罩无效

专利信息
申请号: 201310309540.3 申请日: 2013-07-22
公开(公告)号: CN103406834A 公开(公告)日: 2013-11-27
发明(设计)人: 程鑫;魏朝阳;顾昊金;易葵;邵建达 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: B24B57/00 分类号: B24B57/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 流变 综合 容器 内壁 护罩
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种内壁保护罩,特别是一种磁流变液综合容器罐的内壁保护罩。 

技术背景

磁流变抛光,是利用磁流变抛光液在磁场中的流变性对工件进行局部修形和抛光的技术。磁流变液由载液(如水,硅油等)、离散的可极化的微米级磁敏微粒、表面活性剂、抛光颗粒和具有其他功能的添加剂组成。磁流变液由抛光盘循环带入工件与抛光盘之间形成的微小间距的抛光区中,在该区域里,磁流变液在高梯度磁场的作用下,发生流变效应而变硬、黏度增大,其中的磁性颗粒沿着磁场强度的方向排列成链,形成具有一定形状的凸起缎带,而其中的抛光粉颗粒不具有磁性,因此会被挤压而浮向磁场强度弱的上方,这样上面浮着一层抛光颗粒的凸起缎带就构成了一个“柔性抛光模”,当该柔性抛光模在运动盘的带动下流经工件与运动盘形成的小间隙时,会对工件表面产生很大的剪切力,对工件表面材料实现去除。在整个加工过程中,磁流变液由循环系统控制,存储在铝制综合容器罐中,由输出泵送到输出管路,再由喷嘴喷到抛光盘上,离开加工区域后的磁流变液由回收泵通过回收管路,回收到综合容器罐中。 

磁流变抛光效率主要取决于磁流变液的稳定性,而在循环控制系统中,磁流变液在综合容器罐中只占1/2体积,因此,在循环过程中,会有少许磁流变液溅到综合容器罐内壁的上部,随着时间的推移,沉积逐渐增多并硬化,紧紧的粘附在综合容器罐的内壁上,造成磁流变液的损失,因而降低磁流变抛光效率,直至不适合工件的加工,时间约为2周左右。所以,综合容器罐需要2周清洗一次,再换上新的磁流变液,但是由于磁流变液长时间的沉积硬化,综合容器罐的上部会产生大面积的结块而很难去除,清洗时间主要花费在清洗磁流变液综合容器罐的上部,完全清洗掉需花费5-6小时,不仅耗费大量的人力和时间,在清除结块的过程中还对铝制综合容器罐造成一定的损伤。 

发明内容

本发明针对上述所存在的问题提供一种磁流变液综合容器罐内壁保护罩,以增 加磁流变液的使用寿命,缩短磁流变液综合容器罐的清洗时间。 

本发明的技术解决方案如下: 

一种磁流变液综合容器罐的内壁保护罩,其特点在于该内壁保护罩由中空的长方形筒和平顶盖一体构成,该内壁保护罩的外壁与磁流变液综合容器罐的内壁相适配,所述的平顶盖的周边大于磁流变液综合容器罐的罐口,且平顶盖的中心设有螺旋桨插入口,所述的长方形筒两个相对的面上分别设有磁流变液回收的铜管插入口和去离子水加入的铜管插入口,所述的保护罩由塑料制成。 

本发明的技术效果如下: 

加装本发明保护罩的磁流变液综合容器罐,可以将磁流变液使用寿命延长一周左右,清洗综合容器罐的时间由原来的5-6小时减少至30分钟左右,不仅避免了原来清洗过程中对综合容器罐的损坏,而且大大提高了工作效率。 

附图说明

图1是本发明磁流变液综合容器罐内壁保护罩的立体图。 

图2是本发明磁流变液综合容器罐内壁保护罩的安装示意图。 

具体实施方式

图1是本发明磁流变液综合容器罐内壁保护罩的立体图,图2是本发明磁流变液综合容器罐内壁保护罩的安装是示意图,由图可见,本发明磁流变液综合容器罐的内壁保护罩由中空的长方形筒2和平顶盖1一体构成,该内壁保护罩的外壁与磁流变液综合容器罐的内壁5相适配,所述的平顶盖1的周边大于磁流变液综合容器罐的罐口,且平顶盖1的中心设有螺旋桨6的插入口3,所述的长方形筒2两个相对的面上分别设有磁流变液回收的铜管插入口4和去离子水加入的铜管插入口,所述的磁流变液综合容器罐保护罩由塑料制成。 

试用表明,在磁流变液综合容器罐中加装本发明保护罩,可以将磁流变液使用寿命延长一周左右,清洗综合容器罐的时间由原来的5-6小时减少至30分钟左右,不仅避免了原来清洗过程中对综合容器罐的损坏,而且大大提高了工作效率。 

以上所述的仅是本发明的优选实施例。应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些也应该视为本发明的保护范围。 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310309540.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top