[发明专利]光刻机光束监测系统的标定装置及标定方法有效

专利信息
申请号: 201310307284.4 申请日: 2013-07-19
公开(公告)号: CN103365118A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 黄立华;王俊;侯莉颖;彭雪峰;任冰强;曾爱军;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光刻 光束 监测 系统 标定 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻机光束监测系统的标定装置,其特征在于该装置包括照明单元(1),指向偏移引入单元(2),光束位置偏移引入单元(3)和控制单元(4),所述的照明单元(1)由依次的激光器(101)、准直镜(102)和小孔光阑(103)组成,所述的光束指向偏移引入单元(2)由一个双圆光楔(201)及承载它的电动平台组成,所述的光束位置偏移引入单元(3)由第一平行平板(301)、第二平行平板(302)及承载它们的电动平台组成,所述的控制单元(4)包括多功能数据采集卡和计算机,上述元部件的位置关系如下:

所述的照明单元(1)、光束指向偏移引入单元(2)和光束位置偏移引入单元(3)共光轴地安装与一个套筒内,沿所述的激光器(101)的激光输出方向依次是同光轴的所述的准直镜(102)、小孔光阑(103)、双圆光楔(201)、第一平行平板(301)、第二平行平板(302),所述的控制单元(4)的输出端分别与所述的光束指向偏移引入单元(2)的电动平台和所述的光束位置偏移引入单元(3)的电动平台相连。

2.利用权利要求1所述的光刻机光束监测系统的标定装置对光刻机光束监测系统进行标定的方法,其特征在于该方法包括下列步骤:

(一)打开激光器,预热十五分钟,打开计算机和控制软件;

(二)系统初始化配置:

①将控制单元(4)的输入端与待测的光束监测系统指向测量光路输出端和位置测量光路输出端连接,控制单元(4)采集待测光束监测系统的位置偏移量m1和指向偏移量n1

②将所述的套筒与待测的光束监测系统共轴连接,控制单元(4)的输出端分别与所述的光束指向偏移引入单元(2)的电动平台和所述的光束位置偏移引入单元(3)的电动平台相连,通过光束指向偏移引入单元(2)的电动平台和所述的光束位置偏移引入单元(3)的电动平台调整所述的第一平行平板(301)、第二平行平板(302)和双圆光楔(201)处于零位状态,即控制单元(4)采集经待测光束监测系统的位置偏移量m1和指向偏移量n1不变;

(三)光束监测系统位置测量光路标定:

①根据平行平板轴向位移偏差公式计算出偏移距离x1所需旋转角度i;

②初始时,复位双光楔(201),通过控制软件发送指令,将第一平行平板(301)绕X轴旋转i角度,由控制单元(4)采集待测光束监测系统中探测光束位置信息的输出端口数据y1

③按公式Ty=y1/x1计算位置测量光路缩束比Ty

④改变步骤①的所述的偏移等距离值,重复步骤(三)①~③,然后求位置测量光路的缩束比Ty

⑤重复步骤(三)①~④5次,求平均值得到位置测量光路的缩束比Ty;

⑥将第一平行平板(301)绕X轴旋转-i角度,重复步骤(三)①、②、③、④、⑤得到缩束比Tx,但须将步骤(三)②中第一平行平板(301)绕x轴旋转改为第二平行平板(302)绕y轴旋转,得到位置测量光路的缩束比Tx,最终得到缩束比τ=τx+τy;]]>

(四)光束监测系统指向测量光路标定:

①根据双光楔光束偏转公式计算出偏转等角度x2(0.5mrad)所需旋转角度

②初始时,复位第一平行平板(301)和第二平行平板(302),通过控制软件发送指令,让电控双圆光楔(201)绕正交轴相对旋转角度,由控制单元(4)采集光束监测系统中探测光束指向信息的输出端口数据y2

③根据数据结果y2得到等角度偏移x2对应等效焦距,则得到指向测量光路实际等效焦距,F1=y2/x2

④改变(四)步骤①中所述偏转等角度值,重复步骤(四)①~③5次,获得等效焦距F2、F3、F4、F5、F6

⑤求等效焦距平均值,得到指向测量光路最终等效焦距F:

F=(F1+F2+F3+F4+F5+F5+F6)/6;

(五)将所述的套筒与所述的光束监测系统中分离出来,结束。

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