[发明专利]激光转印方法和该方法使用的激光转印装置

说明书

技术领域

本发明涉及有机EL面板、有机TFT、有机太阳能电池等功能性有机膜的制造方法。

另外，涉及有机EL面板的制造装置和有机EL面板制造方法，特别涉及高效、稳定地形成有机EL发光层的技术。

背景技术

目前，作为包含有机EL面板的发光层的有机EL层的颜色区分方法，使用掩模蒸镀法。但是，掩模蒸镀法所使用的蒸镀掩模价格较高，并且经营成本也高，由于使器件基板与蒸镀掩模接触，因此异物的影响较大，制造成品率低。因此，成为制造成本高、有机EL面板单价高的掩模蒸镀法。另外，相对有机EL面板的大型化·高精细化、工件尺寸扩大，蒸镀掩模制造技术和掩模蒸镀工艺已经显得落后。

为了解决这些问题，正在研究“白色光＋彩色滤光片（CF）”法或颜色转换法、喷墨法或胶印法等溶液工序等不使用掩模蒸镀的方法。在“白色光＋CF”法或颜色转换法、喷墨法或胶印法等使用了涂敷工序的有机EL面板中，发光效率低，寿命也短。因此，为了实现使用这些技术的有机EL面板，必须等待发光效率高、可实现长寿命的材料的开发。另外，“白色光＋CF”法是在整个像素中形成白色光的有机EL层，每个像素使用多种颜色的CF形成彩色图像的方法。

作为替代掩模蒸镀的颜色区分方法的其它的方法，能够列举有激光转印法。在激光转印法中，能够进行高精细对应且能够对应大面积基板。在专利文献1中报告有通过升华法使材料蒸镀至有机EL面板的激光转印法（LIPS、Laser Patternwise Sublimation）。另外，在专利文献2中报告有利用转印板的热膨胀使有机材料转印到有机EL面板上的激光转印法（LITI、Laser Induced Thermal Imaging）。

在专利文献3中，公开了一种无掩模构图，其对施主基板的规定部位照射激光，利用形成于施主基板上的吸收层吸收激光，由此，产生冲击波，使施主基板上的发光材料剥离而转印到有机EL面板上。

另外，有机EL（电致发光；Electro luminescence）元件具有自发光性、高速响应和宽视角等优异的性能。由于这些优异的性能，近年来，有机EL元件作为表现高画质的动态映像的显示器面板用的器件正积极地开发。有机EL元件在阴极和阳极之间具有将有机空穴传输层、有机电子传输层、有机发光层等层叠而形成的多层结构。

作为成为有机EL显示装置的发光层等的较薄的有机EL膜的成膜方法，一般使用掩模蒸镀法。掩模蒸镀法是利用图案状地形成有开口部的蒸镀掩模将基板覆盖，通过开口部蒸镀有机物质，在基板上形成有机EL膜的方法。由于有机EL显示装置的像素的精细度高，蒸镀掩模的开口非常小。在掩模蒸镀法中，在覆盖基板的掩模上也堆积有机EL膜，因开口径发生变化，蒸镀掩模需要进行定期的更换、清洗或维护，存在生产力低的问题。

另外，在掩模蒸镀法中，由于受到来自蒸发源的热辐射，掩模本身发生热膨胀，因此不能确保母基板的周边部的掩模开口位置和电路基板上的规定蒸镀地址的对齐精度，成为阻碍向母基板大型化、面板高精细化的对应的主要原因。

为了解决这些问题，提倡有无掩模转印方式，该无掩模转印方式使预先蒸镀有有机层的施主基板与进行元件形成的基板密接或接近，通过对施主基板照射激光束，使有机EL层升华或剥离而向元件基板转印。

作为在预先形成有机层的施主基板上照射激光而在电路基板上的所希望区域转印有机层的方式，在专利文献4中公开了一种技术，即，通过对在玻璃基板整个面上涂敷有发光材料的施主基板照射激光，使发光材料升华，由此在相对设置的器件基板上形成有机EL层。另外，在专利文献5中公开有一种使涂敷有发光材料的施主薄膜与器件基板密接而在规定部位热转印发光层的方式。

现有技术文献

专利文献1：日本专利3789991号公报

专利文献2：日本特表2002－534782号公报

专利文献3：日本特开2010－40380号公报

专利文献4：日本特开2002－302759号

专利文献5：日本特开2006－216563号

发明内容

发明想要解决的问题