[发明专利]一种自由曲面灰度掩膜的设计方法有效
| 申请号： | 201310303059.3 | 申请日： | 2013-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN103425821A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 杜立群;阮晓鹏 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 侯明远 |
| 地址： | 116024*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 自由 曲面 灰度 设计 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种自由曲面灰度掩膜设计方法，其特征包括五部分：
第一部分：利用计算机辅助设计软件建立目标曲面模型的过程间接控制灰度掩膜上不同区域灰度单元的透射率；
第二部分：利用计算机辅助制造中的刀路模拟对目标曲面模型进行曲面离散；
第三部分：利用计算机辅助制造中的刀路模拟间接控制灰度掩膜图中灰度单元的排列方式；
第四部分：利用改进后的铺路法沿固定铺路节点纵向铺路来逐次生成灰度单元；
第五部分：在Visual Studio开发环境下使用C++语言、AutoCAD二次开发工具ObjectARX，对AutoCAD进行二次开发，进行自由曲面灰度掩模设计。
2.根据权利要求1所述的一种自由曲面灰度掩膜设计方法，其特征在于，是从三维立体模型到二维灰度掩膜图。
3.根据权利要求1所述的一种自由曲面灰度掩膜设计方法，其特征在于，将灰度掩膜振幅编码调制与CAM中直线插补刀轨生成原理相结合。
4.根据权利要求1所述的一种自由曲面灰度掩膜设计方法，其特征在于，灰度掩模图设计程序开发工具的选择。
5.根据权利要求1所述的一种自由曲面灰度掩膜设计方法，其特征在于，灰度掩模图设计程序直接嵌入AutoCAD中运行。
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