[发明专利]一种制备铜铟碲薄膜的方法有效
申请号: | 201310301206.3 | 申请日: | 2013-07-09 |
公开(公告)号: | CN103390692A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 刘科高;张力;李静;石磊;许斌 | 申请(专利权)人: | 山东建筑大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250101 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 铜铟碲 薄膜 方法 | ||
技术领域
本发明属于光电薄膜制备技术领域,尤其涉及一种制备铜铟碲薄膜的制备方法。
背景技术
众所周知,经济的高速发展必然带来能源消耗量的激增。随着近年来我国社会和经济高速发展,能源紧缺及消费能源带来的污染已成为国内社会发展中的突出问题,因此开发利用清洁能源对保护环境、经济可持续发展和构筑和谐社会都有重要的意义。为了更充分的利用太阳能这种清洁、安全和环保的可再生资源,近年来光电材料的研究和应用日益受到重视。
铜铟碲基薄膜太阳电池目前可以认为是最有发展前景的薄膜电池,这是因为其吸收层材料CuInTe2具有较高的光电转化率等一系列优点。特别是以铜铟碲光电薄膜的制备研究已经取得了较大的进展。
目前铜铟碲薄膜的制备方法主要有溶剂热法、喷射热解法、化学沉积法、反应溅射法、真空蒸发法等。由于原料成本低,因此是一种非常有发展前途的光电薄膜材料,但现有工艺路线复杂、制备成本高,因而需要探索低成本的制备工艺。
象前面所述方法一样,其它方法也有不同的缺陷。与本发明相关的还有如下文献:
[1]Leccabue F,Pelosi C.Growth conditions of CuBTe2(B=Ga,In)single crystals by the closed tube chemical vapor transport technique.Materials Letters,1983,2(1):42-44.
主要描述了首次通过连通管化学气象传输技术制备CuGaTe2和CuInTe2单晶。并且所有样品经测试都具有P型导电型。
[2]Xian-Zhou Z,Ke-Sheng S,Zhao-Yong J,et al.A study of the electronic structures and optical properties of CuXTe2(X=Al,Ga,In)ternary semiconductors.Computational and Theoretical Chemistry,2013.
主要研究了三元半导体CuXTe2(X=Al,Ga,In)的电子结构和光学性能,并且这些化合物有相似的光学光谱和各向异性。这些发现预言CuGaTe2和CuInTe2因为其在可见光范围内优秀的光吸收率和光导电性,而在光伏领域具有广阔的前景。
[3]Bhattacharya R N,Rajeshwar K.Electrodeposition of CuInX(X=Se,Te)thin films.Solar Cells,1986,16:237-243.
主要描述了用电沉积法制备CuInX(X=Se,Te)薄膜的过程。并研究了不同电解质对薄膜制备的影响。
[4]Orts J L,Diaz R,Herrasti P,et al.CuInTe2and In-rich telluride chalcopyrites thin films obtained by electrodeposition techniques.Solar energy materials and solar cells,2007,91(7):621-628.
主要描述了使用电沉积方法在钼玻璃基片上制备单相的CuInTe2薄膜。并研究了不同Te气氛与In/Cu比例对CuInTe2合成和形态的影响。
[5]Ishizaki T, Saito N,Fuwa A.Electrodeposition of CuInTe2film from an acidic solution.Surface and Coatings Technology,2004,182(2):156-160.
主要描述了使用电化学沉积方法制备多晶的CuInTe2薄膜。并研究了不同沉积温度和过电位对CuInTe2合成的影响,以及研究了多晶CuInTe2薄膜的禁带宽度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的