[发明专利]含有2,3,5,6-四氟二苯乙炔的向列型负性液晶、合成方法及应用

权利要求书

1.一种含有2,3,5,6-四氟二苯乙炔类的负性液晶，具有如下分子式：

其中，R=C1-C8的正烷基。

2.如权利要求1所述的含有2,3,5,6-四氟二苯乙炔类的负性液晶，其特征是所述的R=C2-C5的正烷基。

3.一种如权利要求1所述的2,3,5,6-四氟二苯乙炔类的负性液晶化合物的合成方法，其特征是通过下述步骤获得：

1）化合物4-乙基-2,3-二氟乙氧基苯A的合成

在-80℃和有机溶剂中，2,3-二氟乙氧基苯、BuLi己烷溶液和碘乙烷反应1-5小时获得化合物4-乙基-2,3-二氟乙氧基苯A；所述的2,3-二氟乙氧基苯、BuLi和碘乙烷的摩尔比为1：1.5～2：3～3.5；

2）化合物4-乙基-2,3-二氟苯酚B的合成

4-乙基-2,3-二氟乙氧基苯、47%的HBr溶液和醋酸加热回流20～35小时；所述的4-乙基-2,3-二氟乙氧基苯、HBr和醋酸的摩尔比为1：1.3～1.5：10～12；

3）化合物对碘苯甲酸（2，3-二氟-4-乙氧基）苯酯C的合成

在室温和有机溶剂中，对碘苯甲酸、2,3-二氟-4-乙氧基苯酚、二环己基碳二亚胺和4-二甲氨基吡啶反应15～30小时；所述的对碘苯甲酸、2,3-二氟-4-乙氧基苯酚、二环己基碳二亚胺和4-二甲氨基吡啶的摩尔比为1：0.93～0.1：1.5～1.7：0.9～0.1；

4）化合物全氟苯基三甲基硅乙炔E的合成

在室温～50℃下，Pd(PPh₃)₂Cl₂、CuI、三乙胺、五氟碘苯和三甲基硅乙炔反应10～30小时；所述的Pd(PPh₃)₂Cl₂、CuI、三乙胺、五氟碘苯和三甲基硅乙炔的摩尔比为0.004～0.006：0.015～0.02：27～30：0.85～1.0：1；

5）化合物对正烷氧基全氟苯乙炔F的合成

在常温下和有机溶剂中，全氟苯基三甲基硅乙炔E,碳酸钾和正C1-C8醇；所述的全氟苯基三甲基硅乙炔E,碳酸钾和正C1-C8醇的摩尔比为1：2～2.5：2～3；

6）化合物4-[(4-正C1-C8烷氧基-2,3,5,6-四氟苯基)乙炔基]苯甲酸(2,3-二氟-4-乙基)苯酯G的合成

在回流温度下，Pd（PPh₃）₂Cl₂，CuI，对碘苯甲酸（2,3-二氟-4-乙基）苯酯C，对正C1-C8烷氧基全氟苯乙炔F（优先正C2-C5烷氧基全氟苯乙炔F）和三乙胺在回流温度下反应1～5h。所述的对碘苯甲酸（2,3-二氟-4-乙基）苯酯C，对正C1-C8烷氧基全氟苯乙炔F（优先正C2-C5烷氧基全氟苯乙炔F），Pd（PPh₃）₂Cl₂，CuI，和三乙胺的摩尔比为1：0.9～1.0：0.17～0.2：0.66～0.8：75～80。

4.如权利要求3所述的2,3,5,6-四氟二苯乙炔类的负性液晶化合物的合成方法，其特征是所述的每步骤的产物采用过滤、有机溶剂提取分离、干燥、浓缩、柱层析或重结晶方法纯化。

5.如权利要求3所述的2,3,5,6-四氟二苯乙炔类的负性液晶化合物的合成方法，其特征是所述的步骤5）中所述的醇为正C2-C5醇。

6.如权利要求3所述的2,3,5,6-四氟二苯乙炔类负性液晶化合物的合成方法，其特征是所述的步骤1）或4）是在氮气保护下进行反应。

7.如权利要求3所述的2,3,5,6-四氟二苯乙炔类的负性液晶化合物的合成方法，其特征是步骤1）、3）或5）所述的有机溶剂是二甲基甲酰胺、四氢呋喃、三乙胺或甲苯。

8.一种如权利要求1所述的2,3,5,6-四氟二苯乙炔类的负性液晶化合物在制备液晶材料中的应用。