[发明专利]甜瓜地膜全覆盖栽培方法

权利要求书

1.一种甜瓜地膜全覆盖栽培方法，其特征在于，包括以下步骤：

1 ) 整地和撒播苕子

甜瓜栽培前，在跨度6米，长40米，高2.5米的大棚内，沿棚向方向距离棚架25～35cm处起垄，将垄面及两垄间空地用钉耙耙平，并在整平表面播种豆科作物苕子，播种量8～10kg/667m²，播后用钉耙再行整平，并在表面撒水淋透；

2）压平苕子

苕子出苗后，注意浇水，保持土壤湿度在70～85%左右，待翌年2月上旬，苕子生长高度在50～60cm时，在苕子表面按50kg/667m²撒施生石灰，将垄面苕子不断根，全部压平；

3）灌溉和覆盖地膜

在靠近大棚外侧的垄面沿棚长方向压平苕子表面放置滴灌管道，将棚内所有地面及垄面全部覆盖银灰黑色双色地膜，覆盖时双色地膜的黑色朝下，银灰色朝上，四周压紧；再在垄间地膜表面覆盖一层干油菜秸秆，密闭大棚或温室，保持28～32天；

4 ) 甜瓜育苗及田间管理

2月上旬甜瓜温床穴盘育苗，瓜苗2～3叶1心时，穿破双色地膜直接定植于垄上，定植后覆盖小拱棚，待3月下旬，揭去小拱棚，进入大棚早熟栽培甜瓜正常管理,5月上中旬开始采收，6月下旬结束栽培。

2.    根据权利要求1所述的甜瓜地膜全覆盖栽培方法，特征在于：所述步骤1）的垄高23～27cm，垄面宽70～75cm，两垄间距50～55cm。

3.根据权利要求1所述的甜瓜地膜全覆盖栽培方法，其特征在于：所述步骤3）的油菜秸秆厚度2～3cm。

4.根据权利要求1所述一种甜瓜地膜全覆盖栽培方法，其特征在于：其特征在于：所述步骤4）的株距40～50cm，两垄间距50～55cm。