[发明专利]电喷雾电离装置及方法在审
| 申请号: | 201310291014.9 | 申请日: | 2013-07-11 |
| 公开(公告)号: | CN104282524A | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
| 发明(设计)人: | 姚钟平;胡斌 | 申请(专利权)人: | 香港理工大学 |
| 主分类号: | H01J49/00 | 分类号: | H01J49/00;H01J49/04 |
| 代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 郭伟刚 |
| 地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 喷雾 电离 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及分析技术领域,具体涉及电喷雾电离装置及方法。
背景技术
电喷雾电离质谱(ESI-MS)属于软电离方式的一种,在一定的电压下,通过测量样品组份的质量电荷比(M/Z),检测样品组份的分子量,对多肽、蛋白质和寡核苷酸等物质定性、定量,并能与高效液相色谱仪联用对混合物进行分析。该技术由美国耶鲁大学的John Fenn教授于1988年发展并应用于生物大分子的检测,John Fenn教授因此在2002年获得了诺贝尔化学奖
现有的电喷雾电离装置及方法中一般采用带有高压的电喷雾毛细管用作离子源,在毛细管内设置含有极性溶剂的样品,通过在毛细管末端施加电压来引入样品和对样品进行离子化,然而现有的毛细管离子源仅能引入溶液样品,且由于其形状限制,在溶液样品的引入和离子化过程中很容易产生毛细管堵塞的问题,同时受毛细管的材质的限制,样品引入的过程比较复杂且只能对样品进行离子化,而无法在电离前对样品进行预处理操作。
发明内容
本发明的目的是针对现有的电喷雾电离装置在电离过程中可引入的样品单一、易堵塞及无法进行样品预处理的问题,提供一种适用于多种形态的样品、结构简单且便于对样品进行预处理的电喷雾电离装置及方法。
本发明就上述技术问题提供的技术方案如下:构造一种电喷雾电离装置,包括电压接口以及与所述电压接口相连接的金属箔片;
所述电压接口用于向所述金属箔片施加电离电压;
所述金属箔片用于承载待测样品并利用所述电离电压激发所述待测样品 发生电离并产生喷雾离子。
本发明的电喷雾电离装置中,所述金属箔片包括用于定向喷出所述喷雾离子电压接口的喷口。
本发明的电喷雾电离装置中,所述金属箔片包括用于承载所述待测样品的主体,以及两个与所述主体成一定夹角的阻挡板,所述喷口形成于所述两个阻挡板之间。
本发明的电喷雾电离装置中,所述主体为五边形,包括底边、与底边垂直的两条侧边及分别与两条侧边斜交的折边,两条折边向同一侧垂直地折起而形成所述两个阻挡板,所述两个阻挡板之间开设有缺口以形成所述喷口。
本发明的电喷雾电离装置中,所述电离源还包括及用于固定支撑所述金属箔片的支架,所述金属箔片由化学惰性金属制成。
本发明的电喷雾电离装置中,所述金属箔片厚度为10~100微米。
本发明的电喷雾电离装置中,所述金属箔片的所述两个阻挡板与所述主体形成的所述夹角均为10~90°。
本发明的电喷雾电离装置中,所述喷口的宽度为50~500微米。
本发明的电喷雾电离装置中,所述电喷雾电离装置还包括设置在靠近所述金属箔片下方的加热装置,用于对所述待测样品进行加热。
本发明还提供一种使用上述电喷雾电离装置的电喷雾电离方法,所述方法包括:
步骤一:将待测样品置于所述电喷雾电离装置的金属箔片上;
步骤二:通过所述电喷雾电离装置的电压接口向所述金属箔片施加电压,使所述待测样品电离产生喷雾离子。
本发明的电喷雾电离方法,还包括以下步骤:将所述喷雾离子通过所述电喷雾电离装置的喷口定向喷出。
本发明的电喷雾电离方法中,所述待测样品包括液体样品、粉末样品、粘稠性样品、干燥固体样品或湿润固体样品中的至少一种。
本发明的电喷雾电离方法还包括以下步骤:对所述待测样品进行预处理,所述预处理包括辅助萃取、辅助电离、表面除盐、辅助加热中的至少一种
本发明的电喷雾电离方法还包括以下步骤:当所述待测样品为粉末或干燥固体样品时,用溶剂对所述待测样品进行萃取或溶解。
本发明的电喷雾电离方法还包括以下步骤:当所述待测样品为液体、粘稠性或湿润固体样品时,用溶剂对所述待测样品进行辅助电离作用。
本发明的电喷雾电离方法还包括以下步骤:当所述待测样品为含有盐分/表面活性剂的蛋白质/多肽样品时,
将所述电离源上的所述待测样品敞开风干,待盐分或表面活性剂自然结晶;通过移液器摄取零摄氏度的冰水浸取所述结晶的盐分或表面活性剂、溶解、吸走;
向残留的所述蛋白质或多肽样品中再添加溶剂进行溶解。
本发明的电喷雾电离方法中,所述电压接口向所述金属箔片施加的电压范围为2~5千伏所述待测样品。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港理工大学,未经香港理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310291014.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种烤箱用的无线温度检测装置
- 下一篇:用于真空封装的荧光收集装置





