[发明专利]一种仿生柔性干电极及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201310290230.1 申请日: 2013-07-11
公开(公告)号: CN103330562A 公开(公告)日: 2013-10-02
发明(设计)人: 刘景全;彭慧玲;王龙飞;杨斌;朱红英;杨春生 申请(专利权)人: 无锡交大联云科技有限公司
主分类号: A61B5/0408 分类号: A61B5/0408;A61B5/0478;A61B5/0492;A61B5/0496
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 214135 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 仿生 柔性 电极 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种仿生柔性干电极,其特征在于:所述仿生柔性干电极包括导电仿生电极片和外部接口;所述导电仿生电极片表面具有仿壁虎的刚毛结构。

2.根据权利要求1所述的仿生柔性干电极,其特征在于:所述导电仿生电极片为三级结构,第一级高度为10微米-100微米,第二级高度为1微米-50微米。

3.一种仿生柔性干电极的制作方法,包括用导电胶将外部接口粘在导电仿生电极片上的步骤,其特征在于:所述导电仿生电极片的第一级和第二级通过微倒模的工艺制备,用聚二甲基硅氧烷PDMS制备一个具有两级结构的PDMS模具,将聚二甲基硅氧烷PDMS和碳纳米管CNT的混合物CPDMS填入模具,待混合物CPDMS固化后,取下混合物CPDMS制备的具有两级结构的薄膜,然后通过inking技术,在两级结构的薄膜的第二级上形成第三级结构。

4.根据权利要求3所述的仿生柔性干电极的制作方法,其制作步骤如下:

所述两级结构的PDMS模具制备:

1)以硅片为基底,用氧等离子清洗硅片;

2)用CVD的方法在硅片上形成氧化层;

3)硅片上旋涂正型光刻胶,曝光,显影,图形化光刻胶层;

4)用反应离子刻蚀硅片上未覆盖光刻胶的地方形成两级结构的底部;

5)清洗掉硅片上的剩余的光刻胶;

6)硅片上旋涂正型光刻胶,曝光,显影,图形化光刻胶层;

7)用深反应离子刻蚀DRIE刻蚀硅片上未覆盖光刻胶的地方形成两级结构的顶部;

8)清洗掉硅片上的剩余的光刻胶;

9)聚二甲基硅氧烷PDMS和固化剂用10:1的比例混合,抽真空,去除气泡然后旋涂在硅片上;

10)固化聚二甲基硅氧烷PDMS;

11)固化的聚二甲基硅氧烷PDMS从硅片上取下来,形成有两级结构的模具;

所述具有两级结构的混合物CPDMS薄膜的制备:

12)将混合物CPDMS,加入固化剂,然后填入两级结构的PDMS模具中;

13)抽真空,固化混合物CPDMS,从两级结构的PDMS模具上取下混合物CPDMS;

第三级结构的制备:

14)在玻璃片上旋涂混合物CPDMS;

15)将具有两级结构的混合物CPDMS薄膜轻轻与旋涂有混合物CPDMS的玻璃片接触几秒钟后,用另一片玻璃片压混合物CPDMS,拿开玻璃片,固化,形成三级结构的第三级。

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