[发明专利]彩色滤光阵列基板及其制造方法

权利要求书

1.一种彩色滤光阵列基板，其特征在于，包括：

一玻璃基板（20），其包括显示区及位于显示区外围的非显示区；

一第一金属层，位于所述玻璃基板（20）上，用来形成位于非显示区的第一外围金属层部分（21）及位于显示区的第一内部金属层部分；

一绝缘层（22），位于所述玻璃基板（20）以及所述第一金属层上；

一第二金属层，位于所述绝缘层（22）上，用来形成位于非显示区的第二外围金属层部分（26）及位于显示区的第二内部金属层部分；

一彩色滤光层（23），位于所述绝缘层（22）与第二金属层之间，所述彩色滤光层（23）包括位于显示区的彩色部分及位于第一外围金属层部分（21）与第二外围金属层部分（26）交错位置的阻隔部分（50）；

一透明导电层，位于第二金属层上。

2.如权利要求1所述的彩色滤光阵列基板，其特征在于，还包括：

一第一保护层（24），位于所述彩色滤光层（23）上；

一主动层（25），位于所述第一保护层（24）上，所述第二金属层位于所述主动层（25）上；

一第二保护层（27），位于所述第二金属层以及第一保护层（24）上；

一平坦化层（28），位于所述第二保护层（27）上，所述透明导电层位于该平坦化层（28）上。

3.如权利要求2所述的彩色滤光阵列基板，其特征在于，还包括一非晶硅层（30），该非晶硅层（30）位于第一保护层（24）与主动层（25）之间。

4.如权利要求1所述的彩色滤光阵列基板，其特征在于，所述阻隔部分（50）为单层、双层或三层结构，当所述阻隔部分（50）为单层结构时，该阻隔部分（50）为红色色阻层、蓝色色阻层或绿色色阻层；当所述阻隔部分（50’）为双层结构时，该阻隔部分（50’）包括红色色阻层、蓝色色阻层以及绿色色阻层中的任意两种；当所述阻隔部分（50’’）为三层结构时，该阻隔部分（50’’）包括红色色阻层、蓝色色阻层以及绿色色阻层。

5.一种彩色滤光阵列基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一玻璃基板（20），该玻璃基板（20）包括显示区及位于显示区外围的非显示区；

步骤2、在所述玻璃基板（20）上形成第一金属层，并通过光罩制程图案化该第一金属层，以形成位于非显示区的第一外围金属层部分（21）及位于显示区的第一内部金属层部分，该第一内部金属层部分包括薄膜晶体管的栅极及存储电容的一电极；

步骤3、在所述第一金属层以及玻璃基板（20）上形成绝缘层（22），并通过光罩制程图案化该绝缘层（22）；

步骤4、在所述绝缘层（22）上形成彩色滤光层（23），并通过光罩制程图案化该彩色滤光层（23），以形成位于显示区的彩色部分及位于非显示区的阻隔部分（50）；

步骤5、在彩色滤光层（23）上形成第一保护层（24），并通过光罩制程图案化该第一保护层（24）；

步骤6、在第一保护层（24）上形成主动层（25），并通过光罩制程图案化该主动层（25），以形成所述薄膜晶体管的通道；

步骤7、在主动层（25）上形成第二金属层，并通过光罩制程图案化该第二金属层，以形成位于非显示区的第二外围金属层部分（26）及位于显示区的第二内部金属层部分，所述第二内部金属层部分包括薄膜晶体管的源/漏极，所述阻隔部分（50）位于第一外围金属层部分（21）与第二外围金属层部分（26）交错位置；

步骤8、在所述第二金属层以及第一保护层（24）上形成第二保护层（27），并通过光罩制程图案化该第二保护层（27）；

步骤9、在第二保护层（27）上形成透明导电层，并通过光罩制程图案化该透明导电层，以形成所述存储电容的另一电极，该另一电极电性连接于所述薄膜晶体管的源/漏极。

6.如权利要求5所述的彩色滤光阵列基板的制造方法，其特征在于，所述步骤8还包括在第二保护层（27）上形成平坦化层（28），并通过光罩制程图案化该平坦化层（28）；所述步骤9中的透明导电层形成于平坦化层（28）上。

7.如权利要求5所述的彩色滤光阵列基板的制造方法，其特征在于，所述步骤5还包括在第一保护层（24）上形成非晶硅层（30），并对该非晶硅层（30）进行掺杂制程；所述步骤6中的主动层（25）形成于该非晶硅层（30）上。