[发明专利]一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种太阳能选择性吸收涂层，所述太阳能选择性吸收涂层由下而上依次包括基底层、红外反射层、第一吸收层、第二吸收层和减反射层，其特征在于，所述红外反射层为钨薄膜层；所述第一吸收层为钨+氧化钨膜，钨含量高；所述第二吸收层为钨+氧化钨膜，厚度钨含量低；减反射层为Al₂O₃薄膜层。

2.根据权利要求1所述的太阳能选择性吸收涂层，其特征在于，所述红外反射层厚度100nm-200nm；和/或

所述第一吸收层厚度50-80nm，钨含量为55-65wt%；和/或

所述第二吸收层为厚度50-80nm，钨含量为25-35wt%；和/或

所述减反射层为Al₂O₃薄膜层，厚度25-45nm。

3.根据权利要求1所述的太阳能选择性吸收涂层，其特征在于，所述红外反射层的厚度为120nm-150nm； 

所述第一吸收层的厚度为60nm-70nm；

所述第二吸收层的厚度为60nm-70nm；

所述减反射层为厚度30-40nm。

4.根据权利要求1所述的太阳能选择性吸收涂层，其特征在于，所述基底层为铜片、不锈钢片、玻璃片，或硅片或是抛光的铜片、抛光的不锈钢片、抛光的玻璃片、抛光的硅片。

5.一种如权利要求1所述的太阳能选择性吸收涂层的制备方法，该方法包括以下步骤：

（a）对基底进行前处理；

 (b)在基底上形成钨薄膜层作为红外反射层；

 (c)在所述红外反射层上形成钨+氧化钨膜高掺杂层作为第一吸收层；

（d）在所述第一吸收层上形成钨+氧化钨膜低掺杂层第二吸收层；

（e）在所述第二吸收层上形成Al₂O₃薄膜层作为减反射层。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(b)-（e）采用磁控溅射法。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

（a1）对基底进行前处理；

 (b1)采用反应磁控溅射方法，使用钨靶，氩气存在下，在基底上形成钨薄膜层作为红外反射层；

(c1)采用反应磁控溅射方法，使用钨靶，氩气和氧气存在下，形成钨+氧化钨膜高掺杂层作为第一吸收层；

（d1）采用反应磁控溅射方法，使用钨靶，氩气和氧气存在下，第一吸收层上形成钨+氧化钨膜低掺杂层作为第二吸收层；

（e1）采用反应磁控溅射方法，使用铝靶，氩气和氧气存在下，在所述第二吸收层上形成Al₂O₃薄膜层作为减反射层。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述骤(b1)中溅射压强为0.05Pa-3Pa，溅射功率为50W-150W，溅射时间为5-15分钟；和/或

所述步骤(c1)中所述氩气流量和氧气流量比2.5:1-4:1，溅射压强为0.05Pa-3Pa，溅射功率为80W-150W，溅射时间为0.5-10分钟；和/或

所述步骤(d1)中所述氩气流量和氧气流量比2.5:1-4:1，溅射压强为0.05Pa-3Pa，，溅射功率为30W-80W，溅射时间为0.5-5分钟；和/或

所述步骤(e1)中所述氩气流量和氧气流量比15:1-5:1，溅射压强为0.05Pa-5Pa，溅射功率为80W-200W，溅射时间为10-30分钟。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤（a1）基底前处理为所述基底用金属清洗剂超声清洗15min，之后用清水漂洗，再用乙醇、丙酮超声清洗15min。