[发明专利]一种人工多孔二氧化钛复合结构及其制备方法

权利要求书

1.一种人工多孔二氧化钛复合结构，包括衬底、过渡层、人工二氧化钛结构、孔、通气孔，其特征在于：所述的过渡层位于衬底的两面，且过渡层内分布有孔；所述的人工二氧化钛结构为长方体结构，且人工二氧化钛结构上分布有孔；所述的通气孔位于人工二氧化钛结构的内部，且贯穿人工二氧化钛结构。

2.根据权利要求1所述的一种人工多孔二氧化钛复合结构，其特征在于：

所述的孔的直径小于500 nm；

所述的通气孔为长方体结构，且长和宽的尺寸范围为1 μm～100 μm。

3.根据权利要求1所述的一种人工多孔二氧化钛复合结构，其特征在于：所述的人工多孔二氧化钛复合结构的制备方法为：

步骤1：采用钛靶和碳靶，利用共溅射的方法在衬底两面镀上钛、碳复合薄膜； 

步骤2：在镀有钛、碳复合薄膜的衬底上滴加紫外光抗蚀剂构成牺牲层，利用紫外曝光技术在牺牲层上得到阵列图形，使用显影的方法去除所述的阵列图形位置处的牺牲层；

步骤3：利用磁控溅射的方法在阵列图形位置沉积碳薄膜；

步骤4：采用去胶剂去除衬底上的牺牲层；

步骤5：在衬底上滴加紫外光抗蚀剂构成牺牲层，利用紫外曝光技术在牺牲层上得到阵列图案，阵列图案的位置与步骤2所述的阵列图形的位置重合，且阵列图案的宽度大于阵列图形的宽度，且阵列图案的长度小于阵列图形的长度，使用显影的方法去除所述的阵列图案位置处的牺牲层；

步骤6：将经历步骤5的衬底放置在滚轴之上，利用衬底两面的钛靶和碳靶，采用共溅射的方式，在步骤5所述的衬底上沉积钛、碳混合薄膜；

步骤7：将步骤6得到的结构放入高温炉内，温度大于500度，氧化时间大于30分钟以燃烧掉碳，形成孔，将牺牲层燃烧掉，同时将钛氧化成二氧化钛，进而得到人工多孔二氧化钛复合结构。