[发明专利]微型转子动平衡测量摆架

说明书

技术领域

本发明涉及一种微型转子动平衡测量摆架。

背景技术

目前，随着高速滚动轴承不断向高速化方向发展，美国三十年前就把高DN值(2.5～3.0)×10⁶[mm×（r/min）]主轴轴承研究列为重点预研项目，而我国“九·五”期间也针对滚子轴承进行了DN值2.5×10⁶的试验研究。根据统计资料显示，在高DN值的工况下，高速滚动轴承失效的主要原因已不再是疲劳剥落，而是占总失效率70%以上的表面损伤和腐蚀，造成表面损伤和腐蚀的主要原因在于高速轻载打滑蹭伤、高温卡死、保持架断裂、磨损等。对应的，改善高速滚动轴承的表面损伤和腐蚀的途径已不能单纯的依靠提高轴承零件的精度（如圆度、波纹度和粗糙度等），而需要考虑高速滚动轴承的微型滚动体的动不平衡所产生的影响。

现有技术中常常采用如图1所示的微型转子动平衡测量摆架来测量微型滚动体的动不平衡数据，该微型转子动平衡测量摆架包括底座1-1、底座1-1上立设固定的四根弹性杆1-2、弹性杆1-2上架设固定的支撑板1-3、支撑板1-3上固定的限位顶针1-4和两个支撑块1-5，其中支撑块1-5和弹性杆1-2形成了托起支撑块1-5的机架，两个支撑块1-5平行间隔分布在限位顶针1-4的右侧，而限位顶针1-4的针尖朝向左侧，在两个支撑块1-5的顶部开设有在左右方向与限位顶针1-4的针尖相对分布的V形的安装槽，在支撑板1-3的底部固定有阻止支撑板1-3绕上下延伸的转动轴线扭动的止扭悬臂1-6，止扭悬臂1-6有两个、并分别固定支撑板1-3的左右两侧，在止扭悬臂1-6远离支撑板1-3的一侧装配有油阻尼器。该摆架中采用四根弹性杆1-2作为支撑，弹性杆1-2的刚度不能太小，否则就无法支撑摆架，而机架过高的刚度和过大的质量也会降低整个摆架在动不平衡测量中的灵敏度，导致不平衡测量精度的降低。同时，整个摆架的质量超过100g，而对于质量10g以下的微型滚子而言，微型滚子不平衡量引起的不平衡力很小，因此摆机架受到的强迫激励也非常微小，从而因摆架的质量是微型滚子的数倍以上，摆架受迫振动的加速度幅值非常小，无法精确测量。 

发明内容

本发明的目的是提供一种减少机架刚性对动不平衡测量灵敏度影响的微型转子动平衡测量摆架。

为了实现以上目的，本发明的微型转子动平衡测量摆架的技术方案如下：

一种微型转子动平衡测量摆架，包括用于在待测转子压迫下水平摆动的支撑块、托持所述支撑块的机架、用于在支撑块水平摆动时向支撑块施加阻尼力的阻尼装置，其特征在于，所述机架为固定设置的刚性导向架，机架通过导向机构在支撑块的水平摆动的直线方向上与支撑块导向配合，并在机架和支撑块之间设有用于阻止支撑块绕摆动方向所在直线转动的止转结构，所述阻尼装置为弹性挡止在支撑块摆动方向上相背两侧的阻尼单元。

所述导向机构包括机架和支撑块上分别设置的导向杆和导向通道，所述导向杆沿支撑块的摆动方向导向插装在所述导向通道内。

所述止转结构包括支撑块和机架上分别设置的止转杆和止转通道，所述止转杆沿支撑块的摆动方向导向插装在所述止转通道内，且止转杆在上下方向与导向杆间隔分布，止转通道在上下方向与导向通道间隔分布。

所述阻尼单元包括套设在所述导向杆外周上的阻尼弹簧，阻尼弹簧的两端分别弹性挡止在支撑块和机架上。

所述支撑块有两个、并在水平面内垂直支撑块摆动的方向上间隔排布。

所述机架包括沿各支撑块的排布方向延伸的调整底座、与各支撑块一一对应设置的调整支架，每个支撑块通过相对独立分布的所述导向机构和止转结构装配在对应的调整支架的顶部而形成摆动单元。

各个摆动单元中至少一个为通过调整支架的底部沿各个支撑块的排布方向导向装配在调整底座上的可调摆动单元，并在调整底座和可调摆动单元之间设有用于在可调摆动单元移动到位后将可调摆动单元可拆固连在调整底座上的锁定结构。

所述相邻两摆动单元之间设有拉紧弹簧，所述拉紧弹簧的两端分别沿摆动单元的排布方向止脱装配在两摆动单元中支撑块的相对侧面上。

所述支撑块为底部装配在机架上、顶部从机架上方露出的支撑块，支撑块的顶面上开设有沿水平面内与支撑块的摆动方向垂直的直线延伸、且槽口朝上的安装槽，所述安装槽为从下向上开口逐渐增大的V形的阔口槽。

所述安装槽的槽壁上设有用于阻止待测转子与槽壁直接接触的弹性垫层。