[发明专利]用于化学气相沉积的进气口元件及其制造方法

权利要求书

1.一种化学气相沉积反应器，其特征在于，包括：

(a) 具有上游和下游方向的反应室；

(b) 载体支撑件，用于在反应室内的载体位置处支撑晶片载体，使载体能够围绕延伸于上游和下游方向的轴旋转；

(c) 在载体位置的上游处安装至反应室的进气口元件，所述进气口元件具有沿着X和Y水平方向延伸的气体分布表面，所述X和Y水平方向相互垂直、且垂直于下游方向，所述进气口元件具有多个长形进气口，用于将气体排入反应室，所述长形进气口相互平行地延伸，并在X水平方向上穿过气体分布表面，且穿过反应器的Y方向中间平面延伸，所述长形进气口包括多个用于排放第一反应气体的第一进气口和多个用于排放第二反应气体的第二进气口，所述第一进气口在Y水平方向上相互间隔地设置，所述第二进气口在Y水平方向上相互间隔地设置，并与第一进气口穿插。

2.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述长形进气口设置为一种在进气口元件的气体分布表面的主要部分上延伸的模式。

3.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述第一和第二进气口设置为一种关于沿X水平方向上延伸的反应器的中间平面不对称的模式。

4.根据权利要求3所述的反应器，其特征在于，所述第一和第二进气口设置为关于沿X水平方向延伸的中间平面成反对称的模式，使得对于任何距X方向中间平面的一侧为正Y距离的第一进气口，都在相应的、距X方向中间平面的相对侧为负Y距离处设置第二进气口。

5.一种进气口元件，其特征在于，具有气体分布表面，所述气体分布表朝向下游方向，并在相互垂直且垂直于下游方向的X和Y水平方向上延伸，所述进气口元件具有多个长形的进气口，用于将气体排放至反应室内，所述长形的进气口在X水平方向上相互平行地延伸，所述长形的进气口设置为在气体分布表面的主要部分上延伸的模式，所述长形的进气口包括多个用于排放第一气体的第一进气口，以及多个用于排放第二气体的第二进气口，所述第一进气口在Y水平方向上相互间隔设置，所述第二进气口在Y水平方向上相互间隔设置，并与第一进气口穿插。

6.一种用于化学气相沉积反应器的进气口元件，其特征在于，包括多个长形元件，这些长形元件相互平行延伸并相互机械连接，使得所述长形元件合作界定了具有上游侧和下游侧的板，所述板具有位于相邻长形元件之间的、从上游侧延伸至下游侧的底部进气开口，所述进气口元件还包括一结构，该结构界定了位于板的上游处的一个或多个气体间隙，并与底部进气开口相通。

7.如权利要求6中所述的进气口元件，其特征在于，至少其中一些长形元件为管状，每个管状元件界定了一个或多个气体分布通道。

8.如权利要求6中所述的进气口元件，其特征在于，还包括与气体分布通道相通的额外进气口，所述额外进气口开向板的下游侧。

9.如权利要求7中所述的进气口元件，其特征在于，还包括沿着至少其中一些长形元件延伸、并从这些管状元件处向下游突出的扩散器，至少一些额外进气口延伸穿过所述扩散器。

10.如权利要求7中所述的进气口元件，其特征在于，还包括一个或多个在管状元件末端处与管状元件连接、并与气体分布通道相通的岐管。

11.一种化学气相沉积反应器，其特征在于，包括：

(a) 具有上游和下游方向的反应室；

(b) 载体支撑件，用于在反应室内的载体位置处支撑晶片载体，使载体能够围绕延伸于上游和下游方向的轴旋转；

(c) 在载体位置的上游处安装至反应室的进气口元件，所述进气口元件具有沿着垂直于下游方向的水平方向延伸的气体分布表面，所述进气口元件具有多个长形进气口，用于排放气体至反应室内，所述长形进气口在第一水平方向上相互平行地延伸，所述长形的进气口包括多个用于排放第一反应气体的第一进气口，和多个用于排放第二反应气体的第二进气口，以及多个用于排放载气的第三进气口，所述载气基本不含第一和第二反应气体，且基本不与第一和第二反应气体反应，所述进气口在垂直于第一水平方向的第二水平方向上相互间隔设置，并相互穿插，使得至少其中一些第一和第二进气口构成成对的相邻进气口，且至少其中一些第三进气口设置在至少其中一些成对的第一和第二进气口之间。

12.如权利要求11中所述的反应器，其特征在于，所述第三进气口设置在每一对相邻的第一和第二进气口之间。