[发明专利]一种用于金属制品的双面蚀刻方法

权利要求书

1.一种用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）在金属制品的上表面和下表面进行掩膜处理，所述上表面和下表面的掩膜层图案对应一致；

（2）先将掩膜后的金属制品上表面或下表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，然后将金属制品翻转，将金属制品的下表面或上表面置于蚀刻机进行喷淋蚀刻，完成对金属制品的双面蚀刻；所述双面蚀刻中的蚀刻液包含以下质量比的组分：三氯化铁20～40%、盐酸3～5%、硝酸1～2%、氢氟酸0.3～0.5%、双氧水0.2～0.4%、氯化钠0.1～0.3%、余量为水；

（3）对双面蚀刻后的金属制品进行脱膜处理，除去掩膜层，并进行清洗、抛光后处理。

2.如权利要求1所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，在进行步骤（1）的掩膜处理前先对金属制品进行表面抛光处理，处理后的金属制品表面的粗糙度≤1.6Ra。

3.如权利要求1所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，所述步骤（1）的掩膜处理中，所述金属制品上表面和下表面的掩膜层图案均为阵列分布的圆形孔状结构。

4.如权利要求1或3所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，在金属制品的上表面和下表面进行掩膜处理具体包括以下过程：在金属制品的上表面和下表面涂覆感光材料，在所述上表面和下表面的感光材料上贴附图案完全对应相同的菲林，所述菲林上的图案为阵列分布的圆形，然后进行曝光处理，曝光后将菲林去掉，并清洗除去所述金属制品上表面和下表面的未固化感光材料，所述金属制品上表面和下表面上固化的感光材料即为掩膜层。

5.如权利4所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，所述菲林上的圆形图案直径比需在所述金属制品上加工出的圆孔直径小0.15～0.2mm。

6.如权利要求4所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，所述掩膜层的厚度为30～50μm。

7.如权利要求1所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，所述步骤（2）中，对所述金属制品的上表面和下表面进行蚀刻的蚀刻液喷淋压力为1.0～1.8psi，喷淋时间为1～1.5min。

8.如权利要求7所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，所述步骤（2）中，对所述金属制品的上表面和下表面进行蚀刻的蚀刻液喷淋压力为1.4psi，喷淋时间为1.2min。

9.如权利要求1或7或8所述的用于金属制品的双面蚀刻方法，其特征在于，所述步骤（2）中，对所述金属制品的上表面和下表面进行蚀刻的蚀刻液的温度为35～45℃。

10.一种采用如上任一所述方法进行双面蚀刻加工的金属制品。