[发明专利]一种化学镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法

权利要求书

1.一种化学镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于：纳米叠层镀膜是在化学镀工艺过程中通过间歇式周期性引入超声波信号于化学镀溶液中，在金属基底材料上沉积Ni-P纳米叠层镀膜，获得的Ni-P纳米叠层镀膜呈层状重复堆积结构，纳米叠层镀膜的单层厚度在50-500纳米范围内，总厚度在4-50微米范围内根据实际需求进行调整。

2.按照权利要求1所述的化学镀Ni-P纳米叠层膜，其特征在于：优选地，纳米叠层镀膜的单层厚度在60-200纳米范围内，总厚度在8-40微米范围内。

3.一种权利要求1所述的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜的制备方法，其特征在于，以金属材料为基底，沉积Ni-P纳米叠层镀膜材料，具体步骤如下：

（1）去除基体金属表面上的油污，在有机溶剂中超声清洗5-10分钟；

（2）酸蚀；

（3）室温水洗；

（4）在化学镀过程中间歇式周期性引入超声波信号，在基底材料上沉积Ni-P纳米叠层镀膜；

（5）水洗并吹干，得到Ni-P纳米叠层镀膜。

4.按照权利要求3所述的化学镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，去除基体金属表面上的油污是将工件浸入三氯乙烯有机溶液中进行刷洗。

5.按照权利要求3所述的化学镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，在有机溶剂中超声清洗是把工件放入三氯乙烯有机溶液中通过超声波清洗机清洗5-10分钟，使得工件获得洁净表面。

6.按照权利要求3所述的化学镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中，酸蚀是指对于不同的基体材料选择相应的酸溶液将基体表面上的氧化薄膜清除掉。

7.按照权利要求3所述的化学镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（4）中，在化学镀过程中间歇式周期性导入超声波信号是指：首先，在超声波的电流为100-200mA、超声波频率为16.5-55.5kHz下镀膜25-295秒；然后，将超声波发生器的电流在5秒内由100-200mA逐渐降低到0；接着，在不加超声波的状态下镀膜25-295秒；再将超声波发生器的电流在5秒内由0逐渐升高到100-200mA；不断重复上述操作，沉积时间为40-500分钟，得到需要的化学镀Ni-P纳米叠层膜。

8.按照权利要求7所述的化学镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法，其特征在于：优选地，所述步骤（4）中，在化学镀过程中间歇式周期性导入超声波信号是指：在超声波的电流为140-190mA、超声波频率为28.5-41.5kHz下镀膜31-115秒；然后，将超声波发生器的电流在5秒内由140-190mA逐渐降低到0；接着，在不加超声波的状态下镀膜31-115秒；再将超声波发生器的电流在5秒内由0逐渐升高到140-190mA；不断重复上述操作，沉积时间为80-400分钟，得到需要的化学镀Ni-P纳米叠层膜。

9.按照权利要求3所述的化学镀Ni-P纳米叠层膜的制备方法，其特征在于，所述步骤（4）中，化学镀溶液的成分如下：

硫酸镍20-30g/L；次磷酸钠20-24g/L；乳酸25-34g/L；乙酸钠14-16g/L；蒸馏水余量。