[发明专利]抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台有效
申请号: | 201310272207.X | 申请日: | 2013-07-01 |
公开(公告)号: | CN103400603A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 张震;王鹏;刘衍;闫鹏 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G12B5/00 | 分类号: | G12B5/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成;黄德海 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扭转 并联 运动 伺服 平台 | ||
1.一种抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,包括:
基座;
上层直线电机组,所述上层直线电机组安装在所述基座上,所述上层直线电机组包括上层电机动子组和上层电机定子组,且所述上层电机定子组可驱动所述上层电机动子组沿第一水平方向移动;
下层直线电机组,所述下层直线电机组安装在所述基座上,所述下层直线电机组包括下层电机动子组和下层电机定子组,且所述下层电机定子组可驱动所述下层电机动子组沿第二水平方向移动,其中所述第一水平方向和所述第二水平方向相互垂直;
解耦组件,所述解耦组件分为上层和下层,所述解耦组件的上层包括沿第二水平方向延伸的上层滑块和与所述上层滑块相适配的上层解耦滑轨,所述上层解耦滑轨设在所述上层滑块和所述上层电机动子组之间,所述解耦组件的下层包括沿第一水平方向延伸的下层滑块和与所述下层滑块相适配的下层解耦滑轨,所述下层解耦滑轨设在所述下层滑块和所述下层电机动子组之间;
支撑组件,所述支撑组件用于提供第一水平方向和第二水平方向的支撑与导向;
连接组件:所述连接组件设在所述上层直线电机组和下层直线电机组与所述解耦组件之间;和
运动平台,所述运动平台安装在所述解耦组件上。
2.根据权利要求1所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述上层直线电机组包括沿第二直线方向间隔布置的第一上层直线电机和第二上层直线电机,所述下层直线电机组包括沿第一直线方向间隔布置的第一下层电机和第二下层电机。
3.根据权利要求2所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述支撑组件包括,上层支撑导轨、下层支撑导轨、上层支撑滑块及下层支撑滑块,所述上层支撑导轨为位于基座的第二水平方向的两侧且沿第一水平方向延伸的两条,所述下层支撑导轨为位于基座的第一水平方向的两侧且沿第二水平方向延伸的两条,所述上层支撑滑块与所述上层支撑滑轨相适配,所述下层支撑滑块与所述下层支撑滑轨相适配。
4.根据权利要求3所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述上层支撑滑块与所述上层电机动子组通过两个第一连接块和一个第一连接杆相连,且所述两个第一连接块下部形成有分别与所述两个第一支撑导轨适配的两个第一滑槽,所述下层滑块与所述下层电机动子组通过两个第二连接块和一个第二连接杆相连且所述两个第二连接块下部形成有分别所述两个第二支撑导轨适配的两个第二滑槽。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述上层支撑滑块和下层支撑滑块分别与所述运动平台一体形成。
6.根据权利要求1所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,还包括第一位移传感器和第二位移传感器,所述第一位移传感器安装在所述解耦组件的上层滑块上,所述第二位移传感器安装在所述解耦组件的下层滑块上,用于检测所述运动平台的移动距离。
7.根据权利要求6所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述第一位移传感器包括:
第一光栅,所述第一光栅安装在上层解耦滑轨上;和
第一计数器,所述第一计数器安装在所述上层滑块上以计量所述第一光栅在所述第一水平方向上的移动位移。
8.根据权利要求6所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述第二位移传感器包括:
第二光栅,所述第二光栅安装在下层解耦滑轨上;和
第二计数器,所述第二计数器安装在所述下层滑块上以计量所述第二光栅在所述第二水平方向上的移动位移。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述上层电机动子组和所述下层电机动子组分别为永磁体。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,其特征在于,所述上层直线电机组和所述下层直线电机组的电磁线圈固定安装在所述基座上,且所述上层直线电机组的电缆线由所述上层电机动子组引出,所述下层直线电机组的电缆线由所述下层电机动子组引出。
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