[发明专利]真空成型装置及其采用的真空容器

权利要求书

1.一种真空容器，用以连接真空成型装置的真空室，该真空容器包括连接腔室、阀门腔室、出料腔室及密封件，其特征在于：该连接腔室的底面上倾斜设有密封面，该连接腔室连接该真空室，该出料腔室相对该连接腔室设置，该出料腔室内设有用以与该真空室相连通的取料通道，该阀门腔室设置于该连接腔室及该出料腔室之间，且与该密封面相对设置，该密封件活动地收容于该阀门腔室内，且该密封件的密封方向相对该连接腔室的底面倾斜设置，以使该密封件能够沿着该阀门腔室的侧壁滑动至该连接腔室的底面上，且该密封件与该密封面紧密贴合，使得该密封件能够将该连接腔室与该阀门腔室和该出料腔室密封隔开。

2.如权利要求1所述的真空容器，其特征在于：该真空容器还包括密封盖，该出料腔室贯通开设有与该取料通道相连通的出料口，该密封盖枢接于该出料腔室上，且盖设该出料口，以密封出料腔室，该密封盖被打开时，该密封盖位于该出料口的下方，且该密封盖相对该出料腔室倾斜设置，以使该取料通道内的成型品能够沿着该密封盖滑落至预设位置处。

3.如权利要求1所述的真空容器，其特征在于：该阀门腔室包括顶壁、第一导向壁、第二导向壁及支撑壁，该第一导向壁由该顶壁的一侧边缘垂直延伸至该连接腔室的顶面，该第二导向壁由该顶壁的另一侧边缘垂直延伸至该出料腔室，且与该第一导向壁平行设置，该第二导向壁与该密封面位于同一个平面上，该支撑壁由该第一导向壁远离该顶壁的一端垂直延伸，且与该顶壁平行设置，该密封件的侧壁分别与该第一导向壁及该第二导向壁相抵持，在该第一驱动件的驱动下，该密封件能够沿着该第一导向壁及该第二导向壁滑动至该连接腔室的底面上，并使该密封件的底面与该支撑壁相抵持，且该密封件与该密封面紧密贴合。

4.如权利要求3所述的真空容器，其特征在于：该真空容器还包括第一驱动件，该顶壁上贯通开设有穿设孔，该密封件包括密封头及凸设于该密封头一侧上的连接杆，该密封头的侧壁分别与该第一导向壁及该第二导向壁相抵持，该连接杆活动地穿设于该穿设孔，并部分凸出于该壳体外，且与该第一驱动件相连接，在该第一驱动件的驱动下，该密封头能够沿着该第一导向壁及该第二导向壁移动至该连接腔室的底面上，使得该密封头与该支撑壁相抵持，且该密封件与该密封面紧密贴合。

5.如权利要求3所述的真空容器，其特征在于：该出料腔室包括安装面、操作面及出料面，该安装面与该顶壁及该第二导向壁相交处相连接，该操作面由该安装面远离该阀门腔室的一端边缘垂直延伸形成，该出料面由该操作面远离该安装面的一端边缘垂直延伸形成，并与该安装面平行设置，且与该密封面相连接，该出料口开设于该出料面上。

6.如权利要求5所述的真空容器，其特征在于：该安装面及该出料面为水平面，且该安装面与该支撑壁倾斜设置，该出料面与该底面平行设置，该密封面两端分别与该安装面及该底面相连接。

7.如权利要求5所述的真空容器，其特征在于：该出料面和该底面位于同一水平面，该密封面由该底面朝向该阀门腔室倾斜凸伸形成，该出料面与该密封面及该底面的相交处相连接。

8.一种真空成型装置，其包括真空室、与该真空室相连的真空容器，该真空容器包括连接腔室、阀门腔室、出料腔室及密封件，其特征在于：该连接腔室的底面上倾斜设有密封面，该连接腔室与该真空室相连接，该出料腔室相对该连接腔室设置，该出料腔室内设有与该真空室相连通的取料通道，该阀门腔室设置于该连接腔室及该出料腔室之间，且与该密封面相对设置，该密封件活动地收容于该阀门腔室内，且该密封件的密封方向相对该连接腔室的底面倾斜设置，以使该密封件能够沿着该阀门腔室的侧壁滑动至该连接腔室的底面上，且该密封件与该密封面紧密贴合，使得该密封件能够将该连接腔室与该阀门腔室和该出料腔室密封隔开。

9.如权利要求8所述的真空成型装置，其特征在于：该真空容器还包括密封盖，该出料腔室贯通开设有与该取料通道相连通的出料口，该密封盖枢接于该出料腔室上，且盖设该出料口，以密封出料腔室，该密封盖被打开时，该密封盖位于该出料口的下方，且该密封盖相对该出料腔室倾斜设置，以使该取料通道内的成型品能够沿着该密封盖滑落至预设位置处。

10.如权利要求8所述的真空成型装置，其特征在于：该阀门腔室包括顶壁、第一导向壁、第二导向壁及支撑壁，该第一导向壁由该顶壁的一侧边缘垂直延伸至该连接腔室的顶面，该第二导向壁由该顶壁的另一侧边缘垂直延伸至该出料腔室，且与该第一导向壁平行设置，该第二导向壁与该密封面位于同一个平面上，该支撑壁由该第一导向壁远离该顶壁的一端垂直延伸，且与该顶壁平行设置，该密封件的侧壁分别与该第一导向壁及该第二导向壁相抵持，在该第一驱动件的驱动下，该密封件能够沿着该第一导向壁及该第二导向壁滑动至该连接腔室的底面上，并使该密封件的底面与该支撑壁相抵持，且该密封件与该密封面紧密贴合。