[发明专利]阵列基板及其制造方法和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括基板，以及设置在基板上的像素电极、公共电极、薄膜晶体管和信号线，所述信号线包括栅线、数据线和公共电极线，其特征在于，还包括：

设置于所述像素电极和所述公共电极之间的绝缘层，所述绝缘层包括：与显示区域对应的第一部分，与非显示区域对应的第二部分，所述非显示区域包括：与薄膜晶体管及信号线走线对应的区域；

所述第一部分的介电常数大于第一临界值，所述第二部分的介电常数小于第二临界值，所述第一临界值大于所述第二临界值。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述绝缘层的材质具有如下特点：经过紫外光照射后，介电常数变大。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

所述绝缘层的第一部分在制造过程中经历过紫外光照射，所述第二部分在制造过程中没有经历过紫外光照射。

4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层为有机绝缘膜。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：钝化层；

与所述绝缘层相比，所述钝化层设置在更靠近所述阵列基板对盒面的一侧。

6.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1-5任一项所述的阵列基板。

7.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：

在形成有第一电极的基板上形成绝缘层，所述绝缘层由经过紫外光照射后介电常数会变大的材质制成；

在形成有所述第一电极和所述绝缘层的基板上形成第二电极；

从阵列基板的非对盒面的一侧对所述阵列基板进行紫外光照。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，

在所述第一电极为像素电极时，所述第二电极为公共电极；

在所述第一电极为公共电极时，所述第二电极为像素电极。

9.根据权利要求7或8所述的制造方法，其特征在于，所述绝缘层为有机绝缘膜。

10.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，在形成有所述第一电极和所述绝缘层的基板上形成第二电极之前，或者，在形成有所述第一电极和所述绝缘层的基板上形成第二电极之后，还包括：

在形成有所述绝缘层的基板上形成钝化层。