[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备有效

专利信息
申请号: 201310267687.0 申请日: 2013-06-28
公开(公告)号: CN103529665B 公开(公告)日: 2016-11-02
发明(设计)人: 友野宽之;关户邦彦;关谷道代;奥田笃;石塚由香;中村延博;伊藤阳太 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/06 分类号: G03G5/06;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 处理 设备
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种电子照相感光构件、包括电子照相感光构件的处理盒以及电子照相设备。

背景技术

目前,在处理盒和电子照相设备中使用的主流电子照相感光构件是含有有机光导电性物质的那些。电子照相感光构件典型地包括支承体和在支承体上形成的感光层。

底涂层通常介于支承体和感光层之间,以抑制电荷从支承体侧向感光层侧的注入,并抑制发生图像缺陷如黑点。

近年来,电子照相感光构件已经含有具有高感光度的电荷产生物质。然而,随着电荷产生物质的感光度增加,产生的电荷量增加,电荷趋于滞留在感光层中,导致称为重影的问题。特别是,很可能会发生其中在输出图像中在前次旋转期间仅在用光照射的部分的浓度增加的被称为正重影的现象。

通过例如向底涂层加入电子输送物质已经抑制了这种重影现象。从底涂层上的感光层的材料设计的自由度的观点出发,含有电子输送物质的底涂层期望使用在形成感光层的涂布液中所含的溶剂中是难溶的固化性材料。PCT日文翻译专利公开号2009-505156公开了含有由交联剂和缩合聚合物(电子输送物质)得到的聚合物的底涂层,所述缩合聚合物具有芳族四羰基双酰亚胺骨架和交联部位。日本专利特开2006-178504公开了含有具有不可水解的缩聚性的官能团的电子输送物质的聚合物的底涂层。

近年来,电子照相图像的品质要求变得越来越严格,正重影的允许范围也变窄。

本发明的发明人已进行了广泛的研究,并发现在PCT日文翻译专利公开号2009-505156和日本专利特开2006-178504中公开的技术在抑制正重影方面具有改善空间。此外,当电荷倾向于滞留在底涂层中以及在底涂层和感光层之间的界面处时,在重复使用之后电位很容易波动。因此,需要降低电位波动。

发明内容

本发明提供了一种即使长期重复使用也抑制正重影和电位波动的电子照相感光构件。还提供了包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

本发明一方面提供了包含支承体、在支承体上形成的底涂层和在底涂层上形成的感光层的电子照相感光构件。所述底涂层包括由下式(1)表示的结构:

其中,在式(1)中,R1和R3各自独立地表示取代或未取代的具有1至10个主链原子的亚烷基,或者取代或未取代的亚苯基;R2表示单键,取代或未取代的具有1至10个主链原子的亚烷基,或者取代或未取代的亚苯基;所述取代的亚烷基的取代基是烷基、芳基、羟基或卤素原子;所述取代的亚苯基的取代基是卤素原子、硝基、氰基、羟基、烷基、或卤代烷基;R9表示氢原子或烷基;A1表示下式(A-1)至(A-6)的任一个表示的基团;B1表示下式(B-1)至(B-3)的任一个表示的基团;D1表示具有5至15个主链原子并由下式(D)表示的基团;E1表示由下式(E-1)至(E-8)的任一个表示的二价基团:

其中在式(A-5)中,R10表示氢原子或烷基;

其中,在式(B-1)至(B-3)中,R2表示单键,取代或未取代的具有1至10个主链原子的亚烷基,或者取代或未取代的亚苯基;R6和R7各自独立地表示具有1至5个主链原子的亚烷基,具有1至5个主链原子并且被具有1至5个碳原子的烷基取代的亚烷基,具有1至5个主链原子并且被苄基取代的亚烷基,具有1至5个主链原子并且被烷氧基羰基取代的亚烷基,或者具有1至5个主链原子并且被苯基取代的亚烷基;在所述亚烷基的主链中的碳原子之一可以被O、S、NH、或NR15取代,R15表示烷基;Ar2表示取代或未取代的亚苯基;所述取代的亚苯基的取代基是卤素原子、硝基、羟基、氰基、烷基或卤代烷基;R12表示氢原子或烷基;A1和A2各自表示由上式(A-1)至(A-6)的任一个表示的基团;o、p和q各自独立地表示0或1,并且o、p和q的总和为1至3;并且*表示键合式(1)中的R3的一侧;

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