[发明专利]一种淋浴头无效
| 申请号: | 201310267300.1 | 申请日: | 2013-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN104249029A | 公开(公告)日: | 2014-12-31 |
| 发明(设计)人: | 陈新棠 | 申请(专利权)人: | 陈新棠 |
| 主分类号: | B05B1/18 | 分类号: | B05B1/18;B05B15/00;C02F9/12 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 王楚鸿 |
| 地址: | 529000 广东省江门*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 淋浴 | ||
技术领域
本发明涉及卫浴设备的淋浴头结构领域,尤其涉及一种具有过滤净化水质和释放放射性物质形成理疗水出水的淋浴头。
背景技术
在现有技术中所使用的淋浴头在淋浴时能给人带来舒服舒适的感觉,但这些淋浴头一般都是只具有淋浴的功能,对于在淋浴时还想享受其他服务的用户来说,但在享受淋浴时未能享受水疗的效果。随着生活改善和社会的进步,人类的污染也越来越严重,而现今使用的自来水的水质较差,未能达到理想的要求,人类或多或少都存在着一些小病小疼。现有技术的淋浴头仍未出现能对用户进行一定水疗功效的产品。
发明内容
本发明为了解决上述的问题,提供一种淋浴头。该淋浴器不但具有水疗作用,改善用户的健康,同时还能过滤净化水质,令水质的使用安全性提高。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种淋浴头,包括淋浴头外壳,淋浴头外壳的底部设有出水盖,出水盖设有出水孔,淋浴头外壳的顶部设有连接头,所述的转接头内设有过滤装置及支撑固定过滤装置的凸台,过滤装置由过滤器壳体、设于过滤器壳体内的活性炭颗粒、磁性石头和负离子石头组成;过滤壳体的顶部设有粗过滤网,底部设有细过滤网。采用活性炭颗粒,被处理的水源在通过活性炭方孔时能够充分与活性炭接触,有效吸附净化处理水中的有机气体、恶臭味气体等,并能吸附多余的余氯等。磁性石头为天然的等轴晶系氧化物类矿物尖晶石族磁铁矿的矿石,主要成分是四氧化三铁,有补肾益精、聪耳明目的作用。另外,还有平喘、镇静、补血的作用。
负离子对人的健康的直接效应:1、使细胞活性化:通过对细胞膜促进膜内外钾、钠离子交换,保持细胞活性。2、净化血液:通过细胞的活性化促进其新陈代谢,废物和有毒有害物质及时排出体外。3、恢复疲劳:消除引起疲劳的致病因素,快速恢复体力。4、稳定植物神经系统:影响植物神经系统得应激功能,调整植物神经的功能。5、增强抗病能力:稳定情绪、增加血液中丙状球蛋白的含量、改善白细胞的数量和质量、增强白细胞吞噬细菌的功能。6、抑制肿瘤细胞生长:影响血液中带电粒子的组分和和分布,从而使细胞体的活性增强。7、吸收并屏蔽电磁波辐射。8、改善过敏体质:调整植物神经系统平衡,增强对变应原的抵抗力。
进一步的,所述的出水孔凸出于出水盖上。
本发明的有益效果是:该淋浴器所设有磁性石头和负离子石头为天然自然产品,无毒无味无放射性,对治疗水能持续磁性水和负离子水;而活性炭颗粒能过滤杂质,去除有毒气体和余氯,净化优化水源。
附图说明
图1是本发明实施例1的一种淋浴头的示意图;
图2是连接头的剖视图。
具体实施方式
实施例1
本实施例1所描述的一种淋浴头,如图1、图2所示,包括淋浴头外壳1,淋浴头外壳的底部设有出水盖2,出水盖设有出水孔,淋浴头外壳的顶部设有连接头4,所述的转接头内设有过滤装置及支撑固定过滤装置的凸台,过滤装置由过滤器壳体6、设于过滤器壳体内的活性炭颗粒7、磁性石头8和负离子石头9组成;过滤壳体的顶部设有粗过滤网10,底部设有细过滤网5。采用活性炭颗粒,被处理的水源在通过活性炭方孔时能够充分与活性炭接触,有效吸附净化处理水中的有机气体、恶臭味气体等,并能吸附多余的余氯等。磁性石头为天然的等轴晶系氧化物类矿物尖晶石族磁铁矿的矿石,主要成分是四氧化三铁,有补肾益精、聪耳明目的作用。另外,还有平喘、镇静、补血的作用。
负离子对人的健康的直接效应:1、使细胞活性化:通过对细胞膜促进膜内外钾、钠离子交换,保持细胞活性。2、净化血液:通过细胞的活性化促进其新陈代谢,废物和有毒有害物质及时排出体外。3、恢复疲劳:消除引起疲劳的致病因素,快速恢复体力。4、稳定植物神经系统:影响植物神经系统得应激功能,调整植物神经的功能。5、增强抗病能力:稳定情绪、增加血液中丙状球蛋白的含量、改善白细胞的数量和质量、增强白细胞吞噬细菌的功能。6、抑制肿瘤细胞生长:影响血液中带电粒子的组分和和分布,从而使细胞体的活性增强。7、吸收并屏蔽电磁波辐射。8、改善过敏体质:调整植物神经系统平衡,增强对变应原的抵抗力。
进一步的,所述的出水孔凸出于出水盖上。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明的结构作任何形式上的限制。凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明的技术方案的范围内。
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