[发明专利]一种石英坩埚、其制备方法及专用模具

权利要求书

1.一种石英坩埚，包括敞口的坩埚本体，其特征在于，所述坩埚本体的内底面均匀设置有多个用于在多晶硅铸锭工艺中作为形核点的盲孔。

2.如权利要求1所述的石英坩埚，其特征在于，所述石英坩埚的内底面为矩形，所述盲孔在所述石英坩埚的内底面上成矩阵排列。

3.如权利要求2所述的石英坩埚，其特征在于，所述石英坩埚的内底面上设置有一石英砂层，所述盲孔形成于所述石英砂层上，所述石英砂层的厚度为0.5-5mm。

4.一种石英坩埚的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）制备石英坩埚作为基材；

2）在步骤1）制得的石英坩埚的内底面上均匀涂布石英砂原浆形成石英砂原浆涂层，所述石英砂原浆涂层的涂覆厚度为0.5-5mm；所述石英砂原浆为微米级石英砂与水的混合溶液、纳米级硅溶胶或者两者的混合物；

3）快速将与所述石英坩埚的内底面形状相匹配的模具扣置在所述石英砂原浆涂层上，所述模具与所述石英砂原浆涂层接触的一侧面设有多个凸起，所述凸起压入所述石英砂原浆涂层；

4）待所述石英砂原浆涂层中的水分蒸发形成固体的石英砂涂层时，移去所述模具；

5）将步骤4）中具有固体石英砂涂层的石英坩埚移入烧结炉加热烘干，烧结温度为50-1000摄氏度，持续烧结时间为1小时以使固体石英砂涂层形成石英砂层。

5.如权利要求4所述的石英坩埚的制备方法，其特征在于，所述步骤3）中还包括在所述模具上设有所述凸起一侧均匀涂覆脱模剂的步骤。

6.如权利要求5所述的石英坩埚的制备方法，其特征在于，所述脱模剂为微米级的氮化硅粉末或者微米级的二氧化硅粉末。

7.如权利要求5或6所述的石英坩埚的制备方法，其特征在于，所述脱模剂的涂覆厚度为0.03-2mm。

8.用于权利要求4所述的制备方法中的模具，其特征在于，包括一板状本体，所述板状本体的一侧面设有多个凸起。

9.如权利要求8所述的模具，其特征在于，所述凸起在所述板状本体上成矩阵排列。

10.如权利要求8所述的模具，其特征在于，所述凸起的顶部截面面积小于底部截面面积。