[发明专利]控制设备、控制方法、以及程序有效

专利信息
申请号: 201310257894.8 申请日: 2013-06-26
公开(公告)号: CN103533250B 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 秋山久志;高木芳德 申请(专利权)人: 索尼半导体解决方案公司
主分类号: H04N5/235 分类号: H04N5/235;H04N9/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 王珊珊
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 控制 设备 方法 以及 程序
【权利要求书】:

1.一种控制设备,包括:

成像元件,其中,作为多个进行光电转换以将经由光收集单元进入的入射光转换为电信号的光感测元件,提供感测第一光感测量的入射光的第一光感测元件以及感测比第一光感测量小的第二光感测量的入射光的第二光感测元件;

曝光信息生成单元,基于从第二光感测元件进行的光电转换获得的电信号生成用于控制在对被摄体成像期间的曝光的曝光信息;以及

曝光控制单元,基于该曝光信息来控制曝光。

2.根据权利要求1所述的控制设备,还包含:

光阻挡单元,提供在第二光感测元件上以便阻挡入射光的一部分,

其中,第二光感测元件进行光电转换以将透过该光阻挡单元的感测的第二光感测量的入射光转换为电信号。

3.根据权利要求2所述的控制设备,其中,光阻挡单元是通过对入射光偏振来阻挡入射光的一部分的偏光器。

4.根据权利要求3所述的控制设备,其中,在提供于成像元件中的多个光感测元件中,在其中第一数目的光感测元件被设置作为一个单位的块中布置第二数目的第二光感测元件,该第二数目小于该第一数目。

5.根据权利要求4所述的控制设备,其中,在所述块中,提供至少一种类型的偏光器。

6.根据权利要求5所述的控制设备,其中,在所述块中,提供仅传输与横向电(TE)波对应的光的第一偏光器和仅传输与横向磁(TM)波对应的光的第二偏光器。

7.根据权利要求3所述的控制设备,

其中,分离颜色的滤色器提供在第一光感测元件上,以及

其中,偏光器提供在第二光感测元件上。

8.根据权利要求7所述的控制设备,其中,其上叠加了偏光器的滤色器也提供在第二光感测元件上。

9.根据权利要求8所述的控制设备,其中,按照Bayer阵列来排列在所述多个光感测元件上布置的各个滤色器。

10.根据权利要求6所述的控制设备,还包括:

确定单元,基于从其上提供了第一偏光器的第二光感测元件输出的电信号和从其上提供了第二偏光器的其它第二光感测元件输出的电信号来确定入射光的类型。

11.根据权利要求10所述的控制设备,还包括:

成像生成单元,至少基于从第一光感测元件获得的电信号生成通过对被摄体成像而获得的捕捉图像;以及

设置单元,基于所述确定单元的确定结果来设置所述成像生成单元的成像模式。

12.根据权利要求1所述的控制设备,其中,当入射光量小于预定光量时,该曝光信息生成单元基于从第一光感测元件进行的光电转换获得的电信号生成曝光信息,并且当入射光量等于或者大于所述预定光量时,该曝光信息生成单元基于从第二光感测元件进行的光电转换获得的电信号生成曝光信息。

13.根据权利要求1所述的控制设备,其中,第二光感测元件感测在第二光感测元件的光感测面上的第二光感测量的入射光,所述光感测面小于第一光感测元件的光感测面。

14.根据权利要求1所述的控制设备,其中,第二光感测元件在光感测时间内感测第二光感测量的入射光,所述光感测时间短于第一光感测元件的光感测时间。

15.一种包括成像元件的控制设备的控制方法,在该成像元件中,作为多个进行光电转换以将经由光收集单元进入的入射光转换为电信号的光感测元件,提供感测第一光感测量的入射光的第一光感测元件以及感测比第一光感测量小的第二光感测量的入射光的第二光感测元件,该控制方法由该控制设备进行,该方法包括:

基于从第二光感测元件进行的光电转换获得的电信号生成用于控制在对被摄体成像期间的曝光的曝光信息;以及

基于该曝光信息来控制曝光。

16.一种计算机可读存储介质,其上存储有指示控制设备的计算机执行以下步骤的程序,该控制设备包括成像元件,在该成像元件中,作为多个进行光电转换以将经由光收集单元进入的入射光转换为电信号的光感测元件,提供感测第一光感测量的入射光的第一光感测元件以及感测比第一光感测量小的第二光感测量的入射光的第二光感测元件:

基于从第二光感测元件进行的光电转换获得的电信号生成用于控制在对被摄体成像期间的曝光的曝光信息;以及

基于该曝光信息来控制曝光。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼半导体解决方案公司,未经索尼半导体解决方案公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310257894.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top