[发明专利]一种大截面均匀可调稳定与交变磁场产生装置及方法有效
| 申请号: | 201310252761.1 | 申请日: | 2013-06-24 |
| 公开(公告)号: | CN103390482A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
| 发明(设计)人: | 蒋远大;蓝鑫冲;王超;陈贞贞 | 申请(专利权)人: | 中国科学院空间科学与应用研究中心 |
| 主分类号: | H01F7/00 | 分类号: | H01F7/00 |
| 代理公司: | 北京法思腾知识产权代理有限公司 11318 | 代理人: | 杨小蓉;杨青 |
| 地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 截面 均匀 可调 稳定 磁场 产生 装置 方法 | ||
1.一种大截面均匀可调稳定与交变亚磁场产生装置,其特征在于,所述的装置包含:圆形上盖(2)、圆形下盖(3)、圆柱形外壳(4)、上磁轭板(5)、下磁轭板(6)、圆柱形线圈支架(7);
所述圆形上盖(2)和圆形下盖(3)分别与圆柱形外壳(4)的上端口和下端口相连,共同组成一封闭的圆柱形桶;
所述上磁轭板(5)与圆形上盖(2)平行,且上磁轭板(5)与圆形上盖(2)之间固定若干圆柱形线圈支架(7),所述圆柱形线圈支架(7)用于缠绕螺线圈(8);
所述圆形下盖(3)和下磁轭板(6)平行,且圆形下盖(3)和下磁轭板(6)之间固定若干圆柱形线圈支架(7),所述圆柱形线圈支架(7)用于缠绕螺线圈(8);
其中,所述上磁轭板(5)与下磁轭板(6)均位于圆柱形桶内,且两者之间相距一定距离;所述上磁轭板(5)和下磁轭板(6)与圆柱形外壳(4)的内壁保持一定距离。
2.根据权利要求1所述的大截面均匀可调稳定与交变亚磁场产生装置,其特征在于,所述若干个圆柱形线圈支架(7)均匀布放于上磁轭板(5)或下磁轭板(6)的圆周上。
3.根据权利要求2所述的大截面均匀可调稳定与交变亚磁场产生装置,其特征在于,所述圆柱形线圈支架(7)的个数为8,相邻的圆柱形线圈支架(7)与上磁轭板(5)或下磁轭板(6)的中心点的夹角均为45度;
其中,所述圆柱形线圈支架(7)的直径取值范围为:8mm~9mm。
4.根据权利要求1所述的大截面均匀可调稳定与交变亚磁场产生装置,其特征在于,所述圆柱形线圈支架(7)的高度可调,进而:
改变上磁轭板(5)与圆形上盖(2)之间的间距;或
改变圆形下盖(3)和下磁轭板(6)之间的间距。
5.根据权利要求1所述的大截面均匀可调稳定与交变亚磁场产生装置,其特征在于,所述圆柱形外壳(4)上设置有若干直径为1mm的通气孔。
6.根据权利要求1所述的大截面均匀可调稳定与交变亚磁场产生装置,其特征在于,
通过螺钉(9)将圆柱形线圈支架(7)的两端分别与圆形上盖(2)和上磁轭板(5)固定相连;
通过螺钉(9)将圆柱形线圈支架(7)的两端分别与圆形下盖(3)和下磁轭板(6)固定相连。
7.根据权利要求1所述的大截面均匀可调稳定与交变亚磁场产生装置,其特征在于,
当螺线圈(8)上通过直流电流激励时,将在上磁轭板(5)和下磁轭板(6)之间的区域内产生可调的稳定的均匀磁场;
当螺线圈(8)上通过交流电流激励时,将在上磁轭板(5)和下磁轭板(6)之间的区域内产生可调幅调频的交变磁场。
8.一种用于控制权利要求1-7所述装置产生大截面均匀可调稳定与交变亚磁场的方法,所述方法包含:
上位机利用RS232串口对恒流源或者交变电源进行实时控制、利用恒流源或者交变电源给螺线圈(8)通电;
利用磁场传感器对大面积均匀可调稳定与交变轴向磁场装置产生的磁场进行实时采集并通过RS232串口将采集的数据传输到电脑上;
利用上位机数据采集软件对采集数据进行实时显示,再利用上位机改变恒流源或者交变电源的输出进而实现对大截面均匀可调稳定与交变亚磁场装置的闭环控制。
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