[发明专利]一种囊式滤芯或过滤器及其制造方法有效
| 申请号: | 201310248607.7 | 申请日: | 2013-06-21 |
| 公开(公告)号: | CN103316536A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
| 发明(设计)人: | 胡鹤滨 | 申请(专利权)人: | 亚美滤膜(南通)有限公司 |
| 主分类号: | B01D35/30 | 分类号: | B01D35/30 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 226006 江苏省南通市南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 囊式滤芯 过滤器 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于过滤气体或液体中存在的细菌等杂质的过滤器,具体涉及一种囊式滤芯。
背景技术
囊式滤芯又称一体式滤芯或滤器,和传统滤芯相比,内部过滤面积较小,适合较小体积流体过滤,经常使用在过滤高端价昂的药品、疫苗、精细化学品上,并可以整体进行高压灭菌。现有的囊式滤芯是由顶盖和主体焊接而成,而制造不同规格的传统式囊式滤芯,需要用到四套模具,浪费了材料和能源。
发明内容
发明目的:本发明为了解决现有技术的不足,提供了一种节约生产模具的囊式滤芯或过滤器,本发明的第二个目的是提供了这种囊式滤芯的制造方法。
技术方案:一种囊式滤芯或过滤器,包括空心的滤芯本体,滤芯本体由上部和下部焊接而成,上部设有进水口,下部设有出水口,所述的上部长度为下部长度的四分之一至三分之一,上部和下部的内部周边均设有相适配的榫槽。
作为优选,所述的榫槽两侧还设有高度不一致的第一槽壁和第二槽壁。
作为优选,靠近滤芯内壁的第一槽壁高度大于靠近滤芯外壁的第二槽壁。
作为优选,所述的上部槽壁的高度差等于下部槽壁的高度差。
一种囊式滤芯或过滤器的制造方法,将上部和下部,靠近滤芯内壁的第一槽壁外周焊接,熔融的物料滴入榫槽中,从而消除第一槽壁和第二槽壁之间的高度差,实现上部和下部的吻合。
在实际使用的时候,只将上下部壁高较高的槽壁(第一槽壁)相互焊接,从而使得熔融的物料落入榫槽中,两壁高相等,外侧槽壁(第二槽壁)自然接触相互吻合从而实现上下部的连接,而且不会因为熔料溢出影响产品的美观。
为了实现本发明的第二个目的,提出技术方案如下:一种囊式滤芯或过滤器的制造方法,将上部和下部,靠近滤芯内壁的第一槽壁外周焊接,熔融的物料滴入榫槽中,从而消除第一槽壁和第二槽壁之间的高度差,实现上部和下部的吻合。
有益效果:本发明和现有技术相比,制造三种不同长度的囊式滤芯所使用的模具要四套,而本专利只要两套模具,节约了能源,节省了材料。
附图说明:
附图1为现有技术的结构示意图;
附图2为本发明的结构示意图;
附图3为本发明滤芯本体上部和下部剖面结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细阐述。
具体实施例1:
一种囊式滤芯或过滤器,包括空心的塑料滤芯本体,由上部1和下部2焊接而成,上部1设有进水口11,下部2设有出水口12,上部1长度为下部2长度的三分之一,上部1和下部2的内部周边均设有相适配的榫槽3。榫槽3两侧还设有高度不一致的第一槽壁41,第二槽壁42,靠近滤芯内壁的第一槽壁41高度大于靠近滤芯外壁的第二槽壁42。
一种囊式滤芯或过滤器的制造方法,将上部1和下部2,靠近滤芯内壁的第一槽壁41外周焊接,熔融的物料滴入榫槽中,从而消除第一槽壁41和第二槽壁42之间的高度差,实现上部1和下部2的吻合。
本发明和现有技术相比,在焊接上下部的时候,只需要焊接壁高较大的内槽壁(第一槽壁),而不需要对内外壁均进行焊接,这样,既节约了资源而且避免了溢料带来的美观问题,此外,如要制造三种不同长度的囊式滤芯,而且,模具可以从以前需要的四套减少为两套,简化了工序,节省了金钱。
具体实施例2:
一种囊式滤芯或过滤器,包括空心的塑料滤芯本体,由上部1和下部2焊接而成,上部1设有进水口11,下部2设有出水口12,上部1长度为下部2长度的四分之一,上部1和下部2的内部周边均设有相适配的榫槽3。榫槽3两侧还设有高度不一致的第一槽壁41,第二槽壁42,靠近滤芯内壁的第一槽壁41高度大于靠近滤芯外壁的第二槽壁42。
一种囊式滤芯或过滤器的制造方法,将上部1和下部2,靠近滤芯内壁的第一槽壁42外周焊接,熔解的物料滴入榫槽中,从而消除第一槽壁41和第二槽壁42之间的高度差,实现上部1和下部2的吻合。
本发明和现有技术相比,在焊接塑料上下部的时候,只需要焊接壁高较大的内槽壁(第一槽壁),而不需要对内外壁均进行焊接,这样,既节约了资源而且避免了溢料带来的美观问题,此外,如要制造三种不同长度的囊式滤芯,模具可以从以前需要的四套减少为两套,简化了工序,节省了金钱。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
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